[发明专利]半导体器件无效
申请号: | 201310070471.5 | 申请日: | 2013-03-06 |
公开(公告)号: | CN103681626A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 崎山阳子;森塚宏平 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L23/552 | 分类号: | H01L23/552 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈萍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
关联申请
本申请基于2012年9月20日提交的在先日本专利申请第2012-206800号,并要求其优先权,在此作为参照并入其全部内容。
技术领域
本发明涉及半导体器件。
背景技术
以前,在半导体器件中,有并联连接了多个半导体元件的半导体器件。在该现有的半导体器件中,例如,在模块栅极布线的分支点和各IGBT元件的栅极焊盘之间的布线中插入铁氧体磁芯。
发明内容
本发明提供能降低EMI(Electro Magnetic Interference)噪声的半导体器件。
实施方式的半导体器件具备绝缘基板。半导体器件具备设在上述绝缘基板上、且具有平板状的形状的第1电极。半导体器件具备设在上述绝缘基板上、且具有平板状的形状的第2电极。半导体器件具备设在上述绝缘基板上、且具有平板状的形状的第3电极。半导体器件具备设在上述第1电极上、且发射极或集电极的任一方电连接到上述第1电极上的第1开关元件。半导体器件具备将上述第1开关元件的发射极或集电极的余下的另一方电连接到上述第3电极上的第1连接布线。半导体器件具备设在上述第2电极上、且发射极或集电极的任一方电连接到上述第2电极上的第2开关元件。半导体器件具备以上述第2开关元件与上述第1开关元件并联连接的方式,将上述第2开关元件的发射极或集电极的余下的另一方电连接到上述第3电极上的第2连接布线。半导体器件具备电连接到上述第1开关元件的栅极上的第1栅极布线。半导体器件具备电连接到上述第2开关元件的栅极上的第2栅极布线。半导体器件具备与上述第1电极及上述第2电极电连接的第3连接布线。半导体器件具备与上述第3电极电连接的第4连接布线。半导体器件具备包含吸收高频电磁波的材料的多个第1平板。半导体器件具备密封树脂,该密封树脂在上述散热板上至少对上述绝缘基板、上述第1至第3电极、上述第1及第2开关元件、上述第1及第2栅极布线、上述第1至第4连接及上述第1平板进行密封。
上述第1平板之中的任一个配置在上述第1连接布线及上述第2连接布线的上方。
根据本发明的实施方式,提供能降低EMI噪声的半导体器件。
附图说明
图1是示出第1实施方式涉及的半导体器件100的构成的一个例子的平面图。
图2是示出沿着图1的X-X线的半导体器件100的截面的一个例子的截面图。
图3是示出图1所示的半导体器件100的电路构成的一个例子的电路图。
具体实施方式
以下,根据附图对实施方式进行说明。并且,在实施方式中,对选择了IGBT元件作为开关元件的一个例子的情况进行说明,但也可以是MOS晶体管等其它电压控制型的开关元件。
(第1实施方式)
图1是示出第1实施方式涉及的半导体器件100的构成的一个例子的平面图。而且,图2是示出沿着图1的X-X线的半导体器件100的截面的一个例子的截面图。而且,图3是示出图1所示的半导体器件100的电路构成的一个例子的电路图。
如图1~图3所示,半导体器件100具备散热板1、框体2、导电性膜3、绝缘基板4、密封树脂5、第1电极PE1、第2电极PE2、第3电极PE3、第1IGBT元件(第1开关元件)T1、第2IGBT元件(第2开关元件)T2、第1连接布线CL1、第2连接布线CL2、第3连接布线CL3、第4连接布线CL4、第5连接布线CL5、第6连接布线CL6、第1栅极布线GL1、第2栅极布线GL2、第1二极管D1、第2二极管D2、多个第1平板S1、多个第2平板S2、布线基板LS、第1外部端子(栅极端子)GT、第2外部端子(集电极端子)CT、第3外部端子(发射极端子)ET、第4外部端子(发射极感应端子)EST。
框体2在散热板1上设置成包围密封树脂5,由树脂材料构成。
密封树脂5在散热板1上,至少对绝缘基板4、第1到第3电极PE1~PE3、第1及第2IGBT元件T1、T2、第1及第2二极管D1、D2、第1及第2栅极布线GL1、GL2、布线基板LS、第1到第6连接布线CL1~CL6、及第1平板S1进行密封。
第1外部端子GT设置成从密封树脂5露出(图1、图2)。该第1外部端子GT经由布线基板LS与第1栅极布线GL1及第2栅极布线GL2(第1、第2IGBT元件T1、T2的栅极)电连接(图2、图3)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310070471.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体装置
- 下一篇:半导体检测结构及形成方法