[发明专利]一种黄芩素分子印迹聚合物的制备方法无效
申请号: | 201310069439.5 | 申请日: | 2013-03-05 |
公开(公告)号: | CN103102444A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 王兵;刘伟 | 申请(专利权)人: | 天津工业大学 |
主分类号: | C08F220/06 | 分类号: | C08F220/06;C08F222/14;C08F2/54;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30 |
代理公司: | 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 李济群 |
地址: | 300160*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 黄芩 分子 印迹 聚合物 制备 方法 | ||
1.一种黄芩素分子印迹聚合物的制备方法,该制备方法采用以下工艺:
1)辐射聚合前期准备
称取1份黄芩素和2份金属离子乙酸镍,溶于10份V/V=1:3的四氢呋喃/甲醇混合溶液中,超声震荡2 h,使其充分配位;再加入4份甲基丙烯酸,超声震荡2 h,使模板分子黄岑素、金属离子乙酸镍和功能单体甲基丙烯酸三者充分作用反应;然后加入30mmol二甲基丙烯酸乙二醇酯,继续超声震荡10 min,通氮气15 min后,真空密封于可塑封容器中,排除氧气对反应的影响;
2)辐射聚合
开启电子加速器,在5-30KGy辐照剂量下,辐照反应物1-10分钟;
3)洗脱模板分子
辐照聚合反应完成后,将聚合物移出辐射室,烘干后,研磨粉碎过200目筛,于甲醇溶液中反复清洗除去过细粒子,再将得到的聚合物在索氏提取器中,用V/V=1:9的乙酸/甲醇的混合溶液抽提洗脱模板分子,直至回流液中用紫外光谱检测不到黄岑素为止;
4)洗涤除杂
先用0.1 mmol/L的乙二胺四乙酸溶液洗涤除去残留在分子印迹聚合物中的金属离子,再用水和甲醇重复洗涤2-5次,最后放入60℃真空干燥箱中,干燥备用。
2. 根据权利要求1所述黄岑素分子印迹聚合物的制备方法,其特征在于通过调节辐照剂量和/或辐照时间来制备系列黄岑素分子印迹聚合物。
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