[发明专利]一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法无效
申请号: | 201310064454.0 | 申请日: | 2013-02-28 |
公开(公告)号: | CN103128303A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 宋西平;窦娜娜;王涵;张蓓 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | B22F9/12 | 分类号: | B22F9/12;C23C14/34;C23C14/14;C23C14/58 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 利用 沉积 工艺 制备 纳米 方法 | ||
1.一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法,其特征在于:以纯金作为原料,以载玻片为基底,溅射一定时间,然后在一定温度和时间范围内进行退火,得到不同尺寸的纳米金颗粒。
2.根据权利要求1所述的的方法,其特征在于,溅射仪的靶材(原料)为纯度为99.99%的金。
3.根据权利要求1所述的的方法,其特征在于,所述载玻片为玻璃载玻片。
4.根据权利要求1所述的的方法,其特征在于,所述溅射时间为30s。
5.根据权利要求1所述的的方法,其特征在于,所述退火温度范围为400℃~600℃。
6.根据权利要求1所述的的方法,其特征在于,所述退火时间范围为30min~120min。
7.根据权利要求1~6中任意一项所述的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
1)将金靶安装在直流溅射仪的靶材座上,将洁净的基底放在直流溅射仪的镀膜室中,抽真空,然后充入少量氩气或其他惰性可电离气体进行一定时间地溅射,得到纳米金薄膜样品;
2)把上述所得到的样品,放入管式炉石英管中,使其位于管式炉的加热区;
3)打开氩气罐阀门与分压表,向石英管中通入氩气或其他惰性气体,调节气流流速至100cm3/min;通氩气10min以排尽石英管内空气,保持通气,管式炉开始加热;
4)加热到一定温度后,保温一定时间,然后炉冷却至室温,并停止通入氩气或其他惰性气体;
5)将退火后的样品取出;样品表面即生成了纳米金颗粒。
8. 根据权利要求7所述的的方法,其特征在于,所述溅射时氩气或其他惰性气体的压力为3-4Pa。
9.根据权利要求7所述的的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:
1)将洁净的基底放在直流溅射仪中,抽真空,然后充入氩气至压力为3~4pa后,进行溅射,溅射时间为30s,得到纳米金薄膜样品;
2)把上述所得到的样品,放入管式炉石英管中,使其位于管式炉的加热区;
3)打开氩气罐阀门与分压表,向石英管中通入氩气,调节气流流速至100cm3/min;通氩气10min以排尽石英管内空气,保持通气,管式炉开始加热;
4)加热到400℃~600℃后,保温30min~120min,然后炉冷却至室温,并停止通入氩气;
5)将退火后的样品取出,样品表面即生成了纳米金颗粒。
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