[发明专利]一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法

权利要求书

1.一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法，其特征在于：以纯金作为原料，以载玻片为基底，溅射一定时间，然后在一定温度和时间范围内进行退火，得到不同尺寸的纳米金颗粒。

2.根据权利要求1所述的的方法，其特征在于，溅射仪的靶材（原料）为纯度为99.99%的金。

3.根据权利要求1所述的的方法，其特征在于，所述载玻片为玻璃载玻片。

4.根据权利要求1所述的的方法，其特征在于，所述溅射时间为30s。

5.根据权利要求1所述的的方法，其特征在于，所述退火温度范围为400℃~600℃。

6.根据权利要求1所述的的方法，其特征在于，所述退火时间范围为30min~120min。

7.根据权利要求1~6中任意一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

1）将金靶安装在直流溅射仪的靶材座上，将洁净的基底放在直流溅射仪的镀膜室中，抽真空，然后充入少量氩气或其他惰性可电离气体进行一定时间地溅射，得到纳米金薄膜样品；

2）把上述所得到的样品，放入管式炉石英管中，使其位于管式炉的加热区；

3）打开氩气罐阀门与分压表，向石英管中通入氩气或其他惰性气体，调节气流流速至100cm³/min；通氩气10min以排尽石英管内空气，保持通气，管式炉开始加热；

4）加热到一定温度后，保温一定时间，然后炉冷却至室温，并停止通入氩气或其他惰性气体；

5）将退火后的样品取出；样品表面即生成了纳米金颗粒。

8. 根据权利要求7所述的的方法，其特征在于，所述溅射时氩气或其他惰性气体的压力为3-4Pa。

9.根据权利要求7所述的的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

1）将洁净的基底放在直流溅射仪中，抽真空，然后充入氩气至压力为3~4pa后，进行溅射，溅射时间为30s，得到纳米金薄膜样品；

2）把上述所得到的样品，放入管式炉石英管中，使其位于管式炉的加热区；

3）打开氩气罐阀门与分压表，向石英管中通入氩气，调节气流流速至100cm³/min；通氩气10min以排尽石英管内空气，保持通气，管式炉开始加热；

4）加热到400℃~600℃后，保温30min~120min，然后炉冷却至室温，并停止通入氩气； 

5）将退火后的样品取出，样品表面即生成了纳米金颗粒。