[发明专利]激光离子源

说明书

技术领域

本发明涉及通过激光的照射发生离子的激光离子源。

背景技术

近年来，开发基于高能量碳离子照射的癌症治疗方法，开始使用了生成离子束的离子源的治疗。

为了该离子源的性能进一步提高，生成高密度的6价碳离子是不可欠缺的。但是，在例如使用了μ波放电等离子体的离子源中，这一点是无力的，所以期待新的离子源的开发。

另一方面，已知具有生成高密度离子束的能力的激光离子源。该激光离子源是如下装置：向在满足规定真空条件的空间内配置的固体靶聚光照射激光，通过该激光的能量而离子化，静电引出该离子来生成离子束。并且，在专利文献1及2中，公开了有关激光离子源的技术。

激光离子源的特征在于使用固体靶作为离子的发生源这点。这样通过使用固体靶，在激光离子源中，能引出高密度的离子电流。

但是，在使激光离子源继续动作的情况下，需要在激光离子源中补给离子的发生源（即固体靶）。

在例如使用了放电等离子体的离子源中，仅供给气体作为离子的发生源即可。与之相对，在激光离子源中，作为离子发生源的固体靶的每次补给，都将激光离子源大气释放来补给（交换）固体靶是一般的作法。并且，在引用文献3及4中虽然是面向UV光源的技术，但公开了关于靶的供给的技术。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009－037764号公报

专利文献2：日本专利第3713524号公报

专利文献3：日本特开2008－098081号公报

专利文献4：日本特开2011－003887号公报

考虑激光离子源对医疗的应用时，对激光离子源要求长时间的稳定动作，所以要求不破坏配置着作为离子发生源的固体靶（以下，简记作靶）的空间内的真空条件地进行靶的补给（交换）。

换而言之，在激光离子源中，确立不大破坏真空条件的连续的靶的补给方法是重要的。

但是，如上所述若每次补给靶就将激光离子源大气释放，则会破坏配置着靶的空间内的真空条件。

因此，在激光离子源中，需要用于供给靶的特别的功夫。

发明内容

本发明的目的在于提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。

根据本发明的1个方式，提供一种激光离子源，具备：真空容器，被真空排气，被输送并配置靶，上述靶通过激光的照射发生离子；阀，设置在上述真空容器的侧面，向上述真空容器内输送靶时开放，上述输送时以外闭塞；靶补给容器，通过上述阀安装于真空容器，将上述靶能移动地保持，能与上述真空容器独立地真空排气；及输送构件，在关闭了上述阀的状态下将上述靶补给容器内真空排气之后，在打开了上述阀的状态下将保持在上述靶补给容器内的靶输送到上述真空容器内。

发明的効果如下：

根据本发明，可以得到能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。

附图说明

图1是示出本发明的第1实施方式涉及的激光离子源的概略构成的示意图。

图2是用于对本实施方式涉及的激光离子源中补给靶时的动作进行说明的侧面图。

图3是用于对本发明的第2实施方式涉及的激光离子源中补给靶时的动作进行说明的侧面图。

图4是示出补给用靶及导轨的组合的一个例子的截面图。

图5是示出补给用靶及导轨的组合的一个例子的截面图。

图6是示出补给用靶及导轨的组合的一个例子的截面图。

图7是示出补给用靶及导轨的组合的一个例子的截面图。

图8是示出补给用靶及导轨的组合的一个例子的截面图。

图9是示出本发明的第3实施方式涉及的激光离子源中使用的靶支架及输送棒的一个例子的示意图。

图10是示出本发明的第4实施方式涉及的激光离子源中使用的将靶固定的固定机构的一个例子的概略图。

图号说明

100、400…激光离子源，110…离子生成真空容器，111…靶移动装置，112、112a、112b…靶，113…靶移动台，120…靶补给容器，121…输送棒，130…阀，140、150…真空排气装置，160…靶输送装置，410…导轨，510…靶支架，520…输送棒，610…基准面，620…弹性体

具体实施方式

以下，参照附图，对本发明的各实施方式进行说明。

（第1实施方式）

图1是示出本发明的第1实施方式涉及的激光离子源的概略构成的示意图。