[发明专利]负压无尘型对位机构

说明书

技术领域

本发明关于一种负压无尘型对位机构，特别是指对位机构环设有一围体及止漏体，并通过真空泵对其抽气达到负压真空状态，由此，所述对位机构在移动时不会有粉尘产生污染无尘室，且保持负压真空状态下，使移动平台与XYθ装置保持良好的紧密性。

背景技术

无尘室被广泛地应用在对环境污染特别敏感的行业，例如半导体生产、生化技术、生物技术、精密机械、制药、医院等行业等，其特征在于以半导体业其对室内的温湿度、洁净度要求尤其严格、故其必需控制在某一个需求范围内，才不会对制作过程产生影响。

而，于各种液晶面板制造、检查设备、半导体制造、检查设置、网印设备或印刷电路板制造、检查设备中，必须使用对位平台进行对位移动等程序；然而现有市售同性质产品中，由于对位机构其周缘皆为开放式设计，因此在驱动装置移动时，会产生粉尘或油污，相当不利于无尘室。虽然有人提出利用对位机构以磁浮系统应用方式来解决上述的问题，然而其控制作过程序繁杂，成本过高的问题。

换言之，如何使对位机构在移动时产生粉尘及油污不会外泄污染环境，以使用于无尘室中，是业界重要的讨论课题。

本发明人鉴于上述现有对位机构无法应用于无尘室的各项缺点，于是亟思加以改良创新，并经多年苦心孤诣潜心研究后，终于成功研发完成本件负压无尘型对位机构。

发明内容

本发明的目的即在于提供一种负压无尘型对位机构，所述对位机构的周缘环设有一围体及一止漏体，以封闭所述固定平台与移动平台所形成的容置空间，并且由真空泵对所述容置空间抽气形成负压真空状态，避免粉尘或油污污染无尘室。

可达成上述发明目的的负压无尘型对位机构，包括有：

一固定平台，其顶缘平面向上环设有一围体于固定平台周缘；

四XYθ装置，设置于固定平台四个象限角上，各所述XYθ装置受驱动装置带动；

一移动平台，共同设置于各象限角的各所述XYθ装置上，通过XYθ装置能够在X方向、Y方向以及θ方向移动；

一止漏体，设置于围体与移动平台之间，封闭所述固定平台与移动平台所形成的容置空间，且所述止漏体由能够弹性回复的材料所构成，当受力解除后会自行回复原先造型；

一真空泵，设置于围体外侧，该真空泵的抽气端接合于容置空间并对容置空间抽气使容置空间呈负压真空状态，且所述真空泵受一控制器所控制；

一压力侦测器，设置于围体外侧，该压力侦测器具有一感测端接于容置空间内用于感测容置空间内的压力上值及下值，并且将压力值转换成电信号传输到该控制器；

该控制器，用于操控所述XYθ装置驱动移动平台朝X方向、Y方向以及θ方向移动、提供设定压力值使真空泵对容置空间进行抽气以及判定压力侦测器测得的压力值是否达到标准，当压力到达设定上值则停止真空泵，若未达到设定下值则自动开启真空泵进行抽气。

所述的负压无尘型对位机构，其中，所述围体与固定平台之间的间隙选用有机硅塑料或填补剂。

所述的负压无尘型对位机构，其中，所述真空泵选用干式真空泵，使受真空泵抽气的容置空间中不含油、水气。

本发明的有益效果是：所述对位机构的周缘环设有一围体及一止漏体，以封闭所述固定平台与移动平台所形成的容置空间，并且由真空泵对所述容置空间抽气形成负压真空状态，避免粉尘或油污污染无尘室。

附图说明

图1为本发明负压无尘型对位机构的立体视图；

图2为所述负压无尘型对位机构的侧视图；

图3为所述负压无尘型对位机构的立体内部视图；

图4为所述负压无尘型对位机构的顶视图；

图5为所述负压无尘型对位机构的移动平台顺时针旋转示意图；

图6为所述负压无尘型对位机构的移动平台逆时针旋转示意图；

图7为所述负压无尘型对位机构的移动平台X轴移动示意图；

图8为所述负压无尘型对位机构的移动平台Y轴移动示意图；以及

图9为所述负压无尘型对位机构的方块图。

附图标记说明：1-固定平台；11-围体；2-第一XYθ装置；21-第一移动单元；22-第一转动单元；23-第一驱动装置；3-第二XYθ装置；31-第二移动单元；32-第二转动单元；33-第二驱动装置；4-第三XYθ装置；41-第三移动单元；42-第三转动单元；43-第三驱动装置；5-第四XYθ装置；51-第四移动单元；52-第四转动单元；6-移动平台；61-止漏体；7-真空泵；71-抽气端；8-压力侦测器；

81-感测端；9-控制器。