[发明专利]一种珩磨机用测量系统及测量方法无效
| 申请号: | 201310057171.3 | 申请日: | 2013-02-22 |
| 公开(公告)号: | CN103358230A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
| 发明(设计)人: | 张广明;陈玉明;孙冬梅;袁宇浩 | 申请(专利权)人: | 南京工业大学 |
| 主分类号: | B24B49/02 | 分类号: | B24B49/02 |
| 代理公司: | 北京爱普纳杰专利代理事务所(特殊普通合伙) 11419 | 代理人: | 何自刚 |
| 地址: | 210000 江苏省南京市鼓楼*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 珩磨机用 测量 系统 测量方法 | ||
技术领域
本发明属于珩磨机技术领域,尤其涉及一种珩磨机用测量系统及测量方法。
背景技术
在珩磨机正常工作的时候,必须要保证工作台的长传送导轨和带有珩磨头的活塞杆保持平行,并且对于两个长传送导轨之间的平行度和各自导轨的不直度有严格的要求和规定,这是珩磨机的珩磨精度的一个基础要求之一,而在珩磨机安装和日常使用的过程中,由于加工工件的加载和卸装都会使传送导轨间的平行度和不直度下降,从而使珩磨机的精度下降。现有的设备都存在着一些问题;一般的量具进行组合式校正,这种方法比较复杂,测量精度低,且对于测量人员要求较高,车辆校正过程很长,不合适现场实时校正;利用电子水平仪来进行校准,此方法对于对象的温度要求比较苛刻,需要一个水平的平板,并且对于水平仪的底座要经过严格的标定。校正的过程测量的点数较多,测量的速度慢,运算量大,实时性差;利用经纬仪来进行校正,此方法测量精度较高,但前期校准工作比较复杂,并且测量的速度不高。
发明内容
本发明的目的在于利用一种珩磨机用测量系统,旨在解决现有珩磨机的珩磨精度测量存在的复杂,测量精度低,对于测量人员要求较高,校正过程很长, 不合适现场实时校正;对象的温度要求比较苛刻,需要一个水平的平板,测量的速度慢,运算量大,实时性差的问题。
本发明的目的在于提供一种珩磨机用测量系统,所述珩磨机用测量系统包括:
靶标,用于发送收集图像的指令;
激光扫描系统,与所述靶标连接,用于对目标进行深度的测量;
视觉处理子系统,与所述激光扫描系统连接,用于拍照和对图像的指令进行处理;
控制子系统,与所述视觉子系统连接,用于对系统的各个设备进行控制;
机械装置,与所述靶标、视觉处理子系统和控制子系统连接,用于对靶标、视觉处理子系统和控制子系统固定。
进一步、所述视觉处理子系统还包括视觉处理计算、GIGE图像传送的千兆卡、工业相机。
进一步、所述控制子系统还包括控制计算机、驱动器、电机。
进一步、所述控制计算机内部设置GIGE子卡。
进一步、所述珩磨机用测量系统点、线、面的之间的距离的测试方法,具体步骤为:点到点、点到面、点到线、线与线、线与面、面与面的距离:将标靶的测头放在A点,将靶标的正面对准视觉测量系统,按下触发器,然后对于B点进行同样的方式操作,系统会自动地求算出AB两点的距离。精度达到0.03mm;点到线的距离:将标靶的测头放在待测点,将靶标的正面对准视觉测量系统,按下触发器,得到待测点的坐标,在待测的平面上任取两个或两个以上的点,分别利用上述求待测点的方式进行抓取,获得直线的信息,最后系统会自动地求算出点到直线的距离。
进一步、所述珩磨机用测量系统平面度的测试方法,具体的步骤为:在需要测量的平面上随机选取4个以上的不同线的测量点,测量点的选取尽量得分散,依次将标靶的测头放在待测点,将靶标的正面对准视觉测量系统,按下触 发器,得到待测点的坐标,最后系统会自动地求算出点到平面度,平面度误差是指被测实际表面不平的程度,而平面在空间直角坐标系中,它的方程一般为:AX+BY+CZ+D=0
若令a1=A/C、a2=B/C、a3=D/C,则平面一般方程可写成为
Z=a1X+a2Y+a3
是平面方程线性回归的数学模型,称之为回归函数,
采用最小二乘法来估计模型式中的参数(a1,a2,a3),令
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