[发明专利]计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法有效
申请号: | 201310052985.8 | 申请日: | 2013-02-19 |
公开(公告)号: | CN103106663A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 姚晨;洪丽娟;成云飞 | 申请(专利权)人: | 公安部第三研究所 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁;郑暄 |
地址: | 200031*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 计算机系统 基于 图像 处理 实现 sim 缺陷 检测 方法 | ||
技术领域
本发明涉及SIM卡生产技术领域,特别涉及SIM质量检测方法技术领域,具体是指一种计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法。
背景技术
SIM卡的损伤检测是在SIM卡的生产过程中对不合格的SIM卡的检测过程。目前在生产过程中的SIM卡损伤检测通常采用人工判断的方式来筛选SIM卡。这样的做的工作量非常巨大。随着计算机技术的出现和应用图像处理的发展,计算机辅助的SIM卡缺陷检测方法可以极大地提高了处理的工作效率。计算机辅助的SIM卡损伤检测方法通常分为:基于传感器的方法和基于图像处理的方法。前者在做SIM卡损伤检测的最大挑战是增加了额外了生产成本从而降低了利润率。而后者则是通过图像处理的方法来实现SIM卡的缺陷检测。因此相对于基于传感器的方法,后者具有更好的适用性和可扩展性,同时不需要增加过多的硬件设备成本(只需要图像采集即可)。
经过对现有技术的文献检索发现,基于图像处理的损伤检测主要包含划痕检测、霉斑检测以及线条检测等。这些方法通过图像损伤模型分析、空时域图像特征以及相邻像素相似性等方法实现相应的图像内容检测。如Kokaram和Anil C等人在《IEEE Transactions on Image Processing》(IEEE图像处理学报)第4卷11期,第1496页到1508页发表的“Detection of missing data in image sequences”一文中提出的基于时间域图像特征的方法。Bruni、Vittoria 和Domenico Vitulano在《IEEE Transactions on Image Processing》(IEEE图像处理学报)第13卷1期,第44页到50页发表的“A generalized model for scratch detection”一文提出了基于划痕的数学模型的方法。然而上述方法的适用对象都是旧电影资料,由于化学介质退化而产生的划痕或霉斑,却难以应用于SIM卡在生产过程中由于机械加工的原因产生的SIM卡损伤。因此,如何提供一种有效、可靠、低成本的基于图像处理的SIM卡损伤检测方法成为SIM卡生产领域亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明的目的是克服了上述现有技术中的缺点,提供一种采用KL距离计算获得最佳匹配模板,对最佳匹配模型进行网格划分,并对每个网格空间采用空间金子塔的匹配计算。从而获得SIM卡损伤所在的网格位置,进而利用网格位置表征SIM卡在生产过程中产生损伤的位置,且实现方式简便,检测效果准确,可靠,成本低廉的计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法。
为了实现上述的目的,本发明的计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法包括以下步骤:
(1)系统获取SIM卡图像和参考模板;
(2)系统将所述的SIM卡图像转换为灰阶空间图像;
(3)系统选取所述的SIM卡图像中与所述的参考模板尺寸相同的区域为目标模板;
(4)系统对所述的目标模板和参考模板进行二值化处理,获得二值化处理结果;
(5)系统对所述的目标模板和参考模板进行KL距离计算,获得KL距离计算结果;
(6)系统根据所述的二值化处理结果和KL距离计算结果确定待检测的SIM卡区域;
(7)系统将所述的待检测的SIM卡区域与所述的参考模板进行相同的网格划分;
(8)系统将所述的待检测的SIM卡区域的网格与对应的参考模板的网格进行匹配计算;
(9)系统根据所述的匹配计算结果标记所述的待检测的SIM卡区域内的SIM卡缺陷位置。
该计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法中,所述的步骤(2)具体包括以下步骤:
(21)系统以所述的SIM卡图像的左上角的像素点为原点建立直角坐标系;
(22)系统将所述的直角坐标系内的像素点根据以下公式从RGB色彩空间图像转换为灰阶空间图像:
Y=0.299×R+0.587×G+0.114×B。
该计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法中,所述的二值化处理的二值化阈值采用OSTU方法确定。
该计算机系统中基于图像处理实现SIM卡缺陷检测的方法中,所述的对目标模板和参考模板进行KL距离计算,具体为:系统利用以下公式计算目标模板和参考模板的KL距离KL(M||T):
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