[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置包括：

载置台，其具有用于载置被处理体的载置面；

气体供给头，其设于上述载置台的一端，具有用于将对上述被处理体实施处理的处理气体向上述载置面喷出的多个气孔；

罩，其用于收容上述气体供给头和被载置在上述载置面之上的上述被处理体，以能够相对于上述载置台装卸自由的方式接合于上述载置台，将用于对上述被处理体实施处理的处理空间形成在上述载置面之上；

密封构件，其设于上述罩和上述载置台之间的接合部，用于对上述罩和上述载置台之间进行密封；

吹扫气体槽，其设于上述罩和上述载置台之间的接合部、且设于上述密封构件和上述处理空间之间；

吹扫气体供给机构，其用于向上述吹扫气体槽供给吹扫气体；

吹扫气体排气机构，其用于从上述吹扫气体槽对上述吹扫气体进行排气；以及

气体排气路径，该气体排气路径用于排出供给到上述处理空间中的处理气体。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

上述载置面具有凹部，在该凹部中设有上述气体供给头，在该凹部中载置有上述被处理体，

上述密封构件和上述吹扫气体槽的至少一部分设于上述罩与形成在上述凹部的四周的凸部之间的接合面。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述吹扫气体槽以围绕被载置在上述载置面上的上述被处理体的方式配置。

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

上述吹扫气体槽是一根连续的槽。

5.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

上述吹扫气体槽是被分割成多个部分的槽。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

在上述分割为多个部分的吹扫气体槽中、在位于上述处理气体的流动方向的下游侧的吹扫气体槽中，上述吹扫气体向单一方向流动。

7.根据权利要求5或6所述的基板处理装置，其特征在于，

以将从上述分割为多个部分的吹扫气体槽中排出的上述吹扫气体排出到上述气体排气路径中，并且使在用于排出上述吹扫气体的吹扫气体排气路径具有与在上述气体排气路径中流动的上述处理气体的流动方向相同方向的矢量成分的方式，使吹扫气体排气路径与上述气体排气路径倾斜地汇合。

8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

分别单独且彼此分离地设置上述分割为多个部分的吹扫气体槽中的、沿着上述被处理体的侧端的吹扫气体槽与上述气体排气路径的汇合部和沿着上述被处理体的后端的吹扫气体槽与上述气体排气路径的汇合部。

9.根据权利要求5或6所述的基板处理装置，其特征在于，

使上述分割为多个部分的吹扫气体槽中的、沿着上述被处理体的侧端的吹扫气体槽，在上述处理气体的流动方向的下游侧，朝向沿着上述被处理体的后端的吹扫气体槽弯曲，

使沿着上述被处理体的侧端的吹扫气体槽与用于排出吹扫气体的吹扫气体排气路径之间的连接部，与沿着上述被处理体的后端的吹扫气体槽重叠。

10.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，

上述吹扫气体槽的沿着上述气体供给头的部分向上述处理空间内暴露且位于上述气体供给头的背面。

11.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

该基板处理装置还具有衬垫，该衬垫设于上述罩与上述载置台之间且在上述密封构件与外界之间。

12.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述气体供给头的上述多个气孔的开口在沿着上述载置面的边的方向呈列形成，

沿着上述载置面的边的上述气体供给头的长度，在载置于上述载置面之上的上述被处理体的、沿着上述气体供给头的长度以上。

13.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

上述吹扫气体兼用作上述处理气体的载气。