[发明专利]一种CVD反应器在审

专利信息
申请号: 201310047081.6 申请日: 2013-02-05
公开(公告)号: CN103964443A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 钳伟;蔡春立;于曙光;冉占山 申请(专利权)人: 六九硅业有限公司
主分类号: C01B33/027 分类号: C01B33/027
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 魏晓波
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 一种 cvd 反应器
【权利要求书】:

1.一种CVD反应器,包括硅芯(1)和供原料气体进入所述CVD反应器内部空间中的进气口,其特征在于,还包括:

能够允许所述硅芯(1)进入其内腔中的管形套筒(2);

与所述进气口导通的导气管(3),且所述导气管(3)与所述套筒(2)导通。

2.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述导气管(3)与所述套筒(2)具有多个导通路径(4)。

3.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述导气管(3)与所述套筒(2)平行设置,且固定连接。

4.根据权利要求3所述的CVD反应器,其特征在于,一个所述导气管(3)与多个所述套筒(2)连接且导通。

5.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述套筒(2)的高度小于所述硅芯(1)的高度。

6.根据权利要求5所述的CVD反应器,其特征在于,所述套筒(2)的高度范围为1900mm-2200mm。

7.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述套筒(2)的内径为200mm-250mm。

8.根据权利要求4所述的CVD反应器,其特征在于,一个所述导气管(3)上连接有四个所述套筒(2)。

9.根据权利要求2所述的CVD反应器,其特征在于,所述多个导通路径(4)沿所述导气管(3)的轴向均匀分布。

10.根据权利要求9所述的CVD反应器,其特征在于,所述导通路径(4)为4-6个。

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