[发明专利]一种CVD反应器在审
申请号: | 201310047081.6 | 申请日: | 2013-02-05 |
公开(公告)号: | CN103964443A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 钳伟;蔡春立;于曙光;冉占山 | 申请(专利权)人: | 六九硅业有限公司 |
主分类号: | C01B33/027 | 分类号: | C01B33/027 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 魏晓波 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 cvd 反应器 | ||
1.一种CVD反应器,包括硅芯(1)和供原料气体进入所述CVD反应器内部空间中的进气口,其特征在于,还包括:
能够允许所述硅芯(1)进入其内腔中的管形套筒(2);
与所述进气口导通的导气管(3),且所述导气管(3)与所述套筒(2)导通。
2.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述导气管(3)与所述套筒(2)具有多个导通路径(4)。
3.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述导气管(3)与所述套筒(2)平行设置,且固定连接。
4.根据权利要求3所述的CVD反应器,其特征在于,一个所述导气管(3)与多个所述套筒(2)连接且导通。
5.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述套筒(2)的高度小于所述硅芯(1)的高度。
6.根据权利要求5所述的CVD反应器,其特征在于,所述套筒(2)的高度范围为1900mm-2200mm。
7.根据权利要求1所述的CVD反应器,其特征在于,所述套筒(2)的内径为200mm-250mm。
8.根据权利要求4所述的CVD反应器,其特征在于,一个所述导气管(3)上连接有四个所述套筒(2)。
9.根据权利要求2所述的CVD反应器,其特征在于,所述多个导通路径(4)沿所述导气管(3)的轴向均匀分布。
10.根据权利要求9所述的CVD反应器,其特征在于,所述导通路径(4)为4-6个。
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