[发明专利]阵列基板及其检测方法和检测装置有效

专利信息
申请号: 201310046771.X 申请日: 2013-02-05
公开(公告)号: CN103969853A 公开(公告)日: 2014-08-06
发明(设计)人: 冀新友;郭建 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/1362;G02B5/20
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张颖玲;程立民
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 阵列 及其 检测 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括设置在基板上的待检测结构,其特征在于,所述待检测结构的下方设置有用于检测待检测结构是否断开的附加层,所述附加层的颜色与待检测结构的颜色不同并且图案形状一致。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述待检测结构为下述结构的至少一种:栅极、栅极扫描线、数据信号线、有源层、源极、漏极。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述附加层的上方还设置有透明保护层。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述附加层为铜层、硅的氧化物层、硅的氮化物层和加有染色剂的聚酰亚胺层中的一种。

5.根据权利要求1-4任一所述的阵列基板,其特征在于,附加层和透明保护层的厚度均不大于5000。

6.一种用于权利要求1所述的阵列基板的检测方法,包括:

向形成有附加层的阵列基板上照射白光;

如果经过所述阵列基板反射后的光线的颜色有附加层的颜色,则对应所述附加层颜色的待检测结构发生断开型不良;如果经过所述阵列基板反射后的光线的颜色没有附加层的颜色,则所述待检测结构没有发生断开型不良;

在判断反射光的颜色时,在反射光的光路上设置一与所述附加层颜色相同的滤光单元,通过透过滤光单元的光来判断经过所述阵列基板反射后的光线的颜色。

7.一种用于权利要求1所述的阵列基板的检测装置,其特征在于,包括:测试基台、光源及滤光单元;所述测试基台用于放置待检测的阵列基板,所述光源为白光光源,用于向形成有附加层的阵列基板上照射白光,所述滤光单元用于过滤与所述附加层颜色不相同的光。

8.根据权利要求7所述的检测装置,其特征在于,所述滤光单元为与所述附加层颜色相同的滤光片。

9.根据权利要求7所述的检测装置,其特征在于,还包括光检测单元,所述光检测单元用于识别与所述附加层颜色相同的光。

10.根据权利要求9所述的阵列基板检测装置,其特征在于,还包括外罩,所述光源和所述滤光单元分别位于所述测试基台两侧的上方,且所述光检测单元位于所述滤光单元的上方,所述外罩位于整个检测装置的外侧用于容纳所述检测装置。

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