[发明专利]一种龙泉青瓷垫烧工艺无效

专利信息
申请号: 201310041794.1 申请日: 2013-01-30
公开(公告)号: CN103073266A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 张建平 申请(专利权)人: 丽水学院
主分类号: C04B33/34 分类号: C04B33/34
代理公司: 浙江永鼎律师事务所 33233 代理人: 陆永强
地址: 323000 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 龙泉 青瓷 工艺
【说明书】:

技术领域

发明属于龙泉青瓷制作技术领域,涉及一种龙泉青瓷垫烧工艺。

背景技术

目前,龙泉青瓷的垫烧工艺多采用泥饼、氧化铝饼、支钉等直接垫烧,垫烧部位有明显的垫烧痕迹、易变形、外观效果不佳,很大程度影响了青瓷尤其是高端青瓷的外观效果,难于提升龙泉青瓷的制作品质、艺术品位。一直以来,对垫烧工艺的改进及创新是广大青瓷从业人员一直探索的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种龙泉青瓷垫烧工艺,克服了现有技术中的龙泉青瓷制品在垫烧效果上的缺陷,以收缩性相同的制胎原料制作垫饼,并对垫烧部位进行装饰,使其在烧制后无明显托底烧制痕迹。

本发明所采用的技术方案是:一种龙泉青瓷垫烧工艺,其特征在于,将垫烧部位进行纹样装饰处理,包括以下步骤:

①成型:按照设计要求,制作青瓷泥坯;

②干燥:将制作好的青瓷泥坯进行干燥处理,达到半干燥的程度;

③修坯:按照设计要求,将半干燥的青瓷泥坯精修,尤其是垫烧部位需按照设计要求修整可装饰区域;

④垫烧部位的装饰:根据青瓷制品的工艺要求,对青瓷泥坯上的垫烧部位进行装饰,得到青瓷胎体;

⑤垫饼的制作:使用与青瓷泥坯相同的制胎原料制作垫饼,对垫饼进行处理,使其与青瓷胎体需垫烧部位尺寸完全吻合;

⑥素烧:将干燥后的青瓷胎体及垫饼装进窑炉,烧制5-6小时,使窑温从常温逐渐升至750~780℃,然后再继续保温10-20分钟,熄火自然冷却,得到青瓷素烧胎;

⑦施釉:对青瓷素烧胎进行施釉,施釉后将需垫烧部位表层釉面刮除干净;

⑧釉烧:将垫饼与青瓷素烧胎上的垫烧部位完全吻合放置,一起装进窑炉进行二次烧成,经过8-12小时的烧制,使窑温达到1280℃后止火冷却,得到垫烧部位装饰完好的青瓷制品,即成。

本发明由于采用了上述的技术方案,实现了龙泉青瓷无痕垫烧的技术突破,并通过该垫烧方法,将垫烧部位进行巧妙装饰,能够制作出精致度更高、视觉效果更佳的高端青瓷制品,突破了龙泉青瓷无法利用圈足部位作为装饰艺术创新的局限,为龙泉青瓷垫烧工艺的创新找到了新方向,丰富了青瓷装饰艺术内涵。制作工艺简单,通过人工或模具成型,对垫烧部位进行装饰,实现了大规模生产,既实现了艺术价值,同时提高青瓷品质,使青瓷装饰风格向多元化发展,进一步提升龙泉青瓷在整个陶瓷行业中的地位。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本发明的技术方案作进一步详细的说明。

本发明的一种龙泉青瓷垫烧工艺,将垫烧部位进行纹样装饰处理,所述装饰工艺技术方案主要包括以下步骤:

①成型:按照设计要求,使用手工成型或模具成型制作青瓷泥坯(即粗坯,就是没有经过修整的坯体);

②干燥:将制作好的青瓷泥坯放置于通风处或温度较高处干燥,使其具有一定的胎体强度,达到半干燥的程度;

③修坯:按照设计要求,将半干燥的青瓷泥坯精修,尤其是垫烧部位需按照设计要求修整可装饰区域;

④垫烧部位的装饰:根据青瓷制品的工艺要求,使用手工雕刻或模印的方法对青瓷泥坯上的垫烧部位进行装饰,得到青瓷胎体;

⑤垫饼的制作:使用与青瓷泥坯相同的制胎原料制作垫饼,使其与青瓷胎体具有一致的收缩性,并采用雕刻或修整的方法对垫饼进行处理,使其与青瓷胎体需垫烧部位尺寸完全吻合,以保证在高温烧成的过程中垫烧部位的装饰图案不被破坏;

⑥素烧:将干燥后的青瓷胎体及垫饼装进窑炉,烧制5-6小时,使窑温从常温逐渐升至750~780℃,然后再继续保温10-20分钟,熄火自然冷却,得到青瓷素烧胎;

⑦施釉:采用喷釉法或浸釉法对青瓷素烧胎进行施釉,施釉后将需垫烧部位表层釉面刮除干净,并用湿海绵擦拭干净;

⑧釉烧:将垫饼与青瓷素烧胎上的垫烧部位完全吻合放置,一起装进窑炉进行二次烧成,经过8-12小时的烧制,使窑温达到1280℃后止火冷却,得到垫烧部位装饰完好的青瓷制品,即成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于丽水学院,未经丽水学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310041794.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top