[发明专利]一种龙泉青瓷垫烧工艺

权利要求书

1.一种龙泉青瓷垫烧工艺，其特征在于，将垫烧部位进行纹样装饰处理，包括以下步骤：

①成型：按照设计要求，制作青瓷泥坯；

②干燥：将制作好的青瓷泥坯进行干燥处理，达到半干燥的程度；

③修坯：按照设计要求，将半干燥的青瓷泥坯精修，尤其是垫烧部位需按照设计要求修整可装饰区域；

④垫烧部位的装饰：根据青瓷制品的工艺要求，对青瓷泥坯上的垫烧部位进行装饰，得到青瓷胎体；

⑤垫饼的制作：使用与青瓷泥坯相同的制胎原料制作垫饼，对垫饼进行处理，使其与青瓷胎体需垫烧部位尺寸完全吻合；

⑥素烧：将干燥后的青瓷胎体及垫饼装进窑炉，烧制5-6小时，使窑温从常温逐渐升至750~780℃，然后再继续保温10-20分钟，熄火自然冷却，得到青瓷素烧胎；

⑦施釉：对青瓷素烧胎进行施釉，施釉后将需垫烧部位表层釉面刮除干净；

⑧釉烧：将垫饼与青瓷素烧胎上的垫烧部位完全吻合放置，一起装进窑炉进行二次烧成，经过8-12小时的烧制，使窑温达到1280℃后止火冷却，得到垫烧部位装饰完好的青瓷制品，即成。

2.根据权利要求1所述的龙泉青瓷垫烧工艺，其特征在于：所述的步骤⑧中的具体操作步骤是：a.干燥阶段：以2-3℃/min的升温速度烧制2.5-3小时，使窑温升至450~500℃；b.氧化阶段：以4-5℃/min的升温速度烧制1.7-2.5小时使窑温升至960~980℃，使水汽与氧化分解气体产物充分挥发；c.保温阶段：使窑温稳定在960~980℃，保温1-1.5小时，有助于胎、釉中气体的排出；d.强还原阶段：以2-3℃/min的升温速度烧制1.3-2小时使窑温升至1200℃，并且使窑炉气压加大至0.03-0.04Mpa；e.弱还原阶段：再经过1-1.5小时将窑温升至1280℃；f.保温阶段：将窑温控制在1275-1280℃，保温0.5-1小时后止火；g.冷却阶段：采用自然冷却法，待窑温冷却至50-80℃后出窑，烧制完成，即得龙泉青瓷成品。

3.根据权利要求1所述的龙泉青瓷垫烧工艺，其特征在于：所述的步骤①中的成型，使用手工成型或模具成型制作青瓷泥坯。

4.根据权利要求1所述的龙泉青瓷垫烧工艺，其特征在于：所述的步骤④中，使用手工雕刻或模印的方法对青瓷泥坯上的垫烧部位进行装饰。

5.根据权利要求1所述的龙泉青瓷垫烧工艺，其特征在于：所述的步骤⑤中，采用雕刻或修整的方法对垫饼进行处理。

6.根据权利要求1所述的龙泉青瓷垫烧工艺，其特征在于：所述的步骤⑦中，采用喷釉法或浸釉法对青瓷素烧胎进行施釉。