[发明专利]光学高温计和使用该光学高温计处理半导体的设备

说明书

本申请要求于2012年1月30日在韩国知识产权局提交的第10-2012-0009205号韩国专利申请的权益，该申请的公开通过引用全部包含于此。

技术领域

本公开涉及一种光学高温计和一种使用该光学高温计处理半导体的设备，更具体地讲，涉及一种改进了接收部的结构的光学高温计和一种使用该光学高温计处理半导体的设备。

背景技术

在半导体处理设备中，对半导体的处理通常需要热处理。例如，在化学气相沉积设备中，有机化合物的外延生长是热化学反应。在热处理中，机械地准确测量并控制温度对于品质和可靠的膜形成是必需的。

在半导体处理设备中，用于测量来自热源(例如，被加热的晶片或被加热的晶片支持物)照射的光的温度的光学高温计用作用于测量温度的设备。

发明内容

提供了一种光学高温计和一种使用该光学高温计处理半导体的设备，该光学高温计具有减少接收部的污染的结构。

其他方面将在下面的描述中部分地进行阐述，并且部分地通过该描述将是清楚的，或者可以通过给出的示例性实施例的实施而明了。

根据本公开的一方面，光学高温计包括：接收部，具有用于接收加热单元的光辐射的接收端；和壳部，覆盖除接收部的接收端以外的接收部，其中，接收部的接收端的与接收部的接收端的纵向垂直的截面的面积朝接收部的接收端的端部减小。

接收部的接收端可以具有半球形形状、锥形形状、圆锥形形状、截圆锥形形状、多棱锥形形状和截多棱锥形形状中的任意一种。

光学高温计还可以包括用于将净化气体注入接收部和壳部之间的净化气体注入部。

通过净化气体注入部注入的净化气体的流率可以设置成使得在接收部的接收端处产生的涡流为最大的值。

接收部可以包括用于传输光的导光管。

接收部可以由透明材料形成。

壳部的端部可以相对于接收部的接收端的端部突出。

接收部的接收端可以布置成邻近加热单元。

根据本公开的另一方面，半导体处理设备包括：室，用于容纳基底，所述基底用来处理半导体；加热单元，用于加热室的内部；和高温计，用于检测室的内部的温度，所述高温计包括接收部和壳部，接收部具有接收端，接收端用于接收加热单元的光辐射，壳部覆盖除接收部的接收端以外的接收部，其中，接收部的接收端的与接收部的接收端的纵向垂直的截面的面积朝接收部的接收端的端部减小。

接收部的接收端可以具有半球形形状、锥形形状、圆锥形形状、截圆锥形形状、多棱锥形形状和截多棱锥形形状中的任意一种。

半导体处理设备还可以包括用于将净化气体注入接收部和壳部之间的净化气体注入部。

通过净化气体注入部注入的净化气体的流率可以设置成使得在接收部的接收端处产生的涡流为最大的值。

接收部可以包括用于传输光的导光管。

接收部可以由透明材料形成。

壳部的端部可以相对于接收部的接收端的端部突出。

接收部的接收端可以布置成邻近加热单元。

半导体处理设备可以是有机化学沉积设备。

半导体处理设备还可以包括被加热单元加热并用于支持室中的基底的支持物，其中，接收部的接收端布置成邻近支持物。

支持物可以是用于支持基底的衬托器。

根据本公开的另一方面，光学高温计包括：壳部，包括空心管，所述空心管具有敞开的端部；和具有接收端的接收部，所述接收部布置在空心管的内部使得接收端邻近所述敞开的端部，其中，接收端的截面积沿纵向朝接收端的端部减小。

接收部的接收端可以具有半球形形状、锥形形状、圆锥形形状、截圆锥形形状、多棱锥形形状和截多棱锥形形状中的任意一种。

光学高温计可以包括用于将净化气体注入接收部和壳部之间的净化气体注入部。

通过净化气体注入部注入的净化气体的流率可以设置成使得在接收部的接收端处产生的涡流为最大的值。

接收部可以包括用于传输光的导光管。

壳部的敞开的端部可以相对于接收部的接收端的端部突出。

附图说明

由下面结合附图进行的对实施例的描述，这些和/或其他方面将变得清楚并且更加容易理解，其中：

图1是根据本公开的实施例的高温计的示意性剖视图；

图2示出了在图1的高温计中接收部的接收端的结构的示例；

图3A和图3B示出了在图1的高温计中接收部的接收端的结构的其他示例；