[发明专利]一种光学晶体的清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗方法，尤其是光学晶体的清洗方法。

背景技术

目前，光学晶体加工清洗剂，是采用玻璃，多种晶体的通用简单的清洗剂，不能满足光学晶体加工需要，不能快速达到清洁度，操作不方面。通常光学晶体的加工面粘附物有无机物，和有机物，无机物比较好去除，附着有机物主要有，沥青，松香，石蜡等凝胶物；氢氟酸对晶体器件有腐蚀；石蜡，不容与水，稀释酒精；沥青，不容与水，稀释酒精；松香，不容与水，冷却后不易粘接，残留物颗粒状。主要溶解去除石蜡和沥青附着物，（松香粉末很容易去），去掉有机附着物，可以很快达到洁净度。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种光学晶体的清洗方法，能够有效迅速去除光学晶体表面的附着物。

本发明是通过以下技术方案来实现的。

一种光学晶体的清洗方法，包括步骤：

（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、异丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混匀；

（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；

（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；

（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；

（5）将光学晶体烘干。

进一步地，上述步骤（1）中，水为去离子水。

进一步地，上述步骤（1）中，先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀。

进一步地，上述步骤（5）中，将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。

本发明的有益效果：

本发明提供的清洗方法，能够有效去除，沥青，松香，石蜡等凝胶物，氢氟酸、石蜡、沥青、松香等各种附着物，清洗速度快，效率较高；同时本发明的清洗液低毒，对人体伤害小，使用方便，清除污迹快捷，清洗洁净度高。

具体实施方式

下面根据实施例对本发明作进一步详细说明。

实施案例1：

光学晶体的清洗方法，包括步骤：

（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚10%、乙醇20%、异丙醇25%、去离子水40%，充分混匀；

具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；

（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；

（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；

（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；

（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。

实施案例2：

光学晶体的清洗方法，包括步骤：

（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚10%、丙二醇甲醚5%、乙醇10%、异丙醇25%、去离子水50%，充分混匀；

具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；

（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；

（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；

（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；

（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。

实施案例3：

光学晶体的清洗方法，包括步骤：

（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚5%、乙醇20%、异丙醇30%、去离子水40%，充分混匀；

具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；

（2）将待清洗的光学晶体放入上述容器内清洗2~3分钟；

（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；

（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；

（5）将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。

实施案例4：

光学晶体的清洗方法，包括步骤：

（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%、丙二醇甲醚10%、乙醇15%、异丙醇20%、去离子水50%，充分混匀；

具体是先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀；