[发明专利]一种光学晶体的清洗方法无效
| 申请号： | 201310029818.1 | 申请日： | 2013-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN103071641A | 公开（公告）日： | 2013-05-01 |
| 发明（设计）人： | 万文;万黎明 | 申请（专利权）人： | 安徽环巢光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08;C11D7/26;C11D7/50 |
| 代理公司： | 安徽汇朴律师事务所 34116 | 代理人： | 丁瑞瑞 |
| 地址： | 238000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 晶体 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学晶体的清洗方法，其特征在于，包括步骤：
（1）选取洁净的容器，按照重量百分比计，放入丙二醇正丁醚5%-10%、丙二醇甲醚5%-10%、乙醇10%-20%、异丙醇20%-30%、水40%-50%，充分混匀；
（2）将待清洗的光学晶体放入所述容器内清洗2~3分钟；
（3）将光学晶体取出，用水清洗1~2分钟；
（4）反复步骤（2）（3）操作3~5次；
（5）将光学晶体烘干。
2.根据权利要求1所述的光学晶体的清洗方法，其特征在于，所述步骤（1）中，水为去离子水。
3.根据权利要求2所述的光学晶体的清洗方法，其特征在于，所述步骤（1）中，先放入去离子水、丙二醇正丁醚，混匀，添加丙二醇甲醚，混匀后，再添加乙醇，混匀后，最后再添加异丙醇，充分混匀。
4.根据权利要求1所述的光学晶体的清洗方法，其特征在于，所述步骤（5）中，将光学晶体在70°C~80°C烘干3~5分钟。
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