[发明专利]一种阵列基板及其制造方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制造方法、显示装置。

背景技术

随着液晶显示技术的不断发展，具有更高开口率与更宽视角的FFS(Fringe Field Switching，边缘场开关)液晶显示器已得到越来越多人们的青睐。

为了进一步提高显示性能，目前的FFS液晶显示器大多采用单畴或者双畴的像素阵列结构。具体的，如图1a所示，在采用单畴像素的液晶显示器中像素电极11的倾斜方向相同，通电状态下液晶分子12将按照同一个方向进行排列，这样一种像素结构的液晶显示器具有较高的光透过率，但其不足之处在于液晶显示器的对比度较低且存在色偏，尤其是在倾斜视角的情况下，用户所观察到的显示器对比度效果如图1b所示，可以看到，尤其是当用户在225°或315°角观察时，对比度相对较差，视角很不理想。对于图2所示的采用双畴像素的液晶显示器而言，每个像素单元内的像素电极21的上半部211和下半部212为对称的倾斜结构，在通电状态下，位于上下半部区域的液晶分子22具有相反方向的倾角，即在单个像素区域内存在着两个不同的液晶畴。与单畴像素相比，双畴像素对比度虽然有所提高，同样存在着在倾斜视角的的情况下视角不理想的问题。现有技术尚难以解决这一问题。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置，可以改善显示装置的视角，提高显示装置的质量。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种阵列基板，包括至少一个阵列结构。

所述阵列结构包括逐行排列的第一像素单元、第二像素单元和第三像素单元；

所述第一像素单元和所述第三像素单元具有单畴倾斜方向，所述第二像素单元具有多畴倾斜方向；

所述第一像素单元的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向不同；

所述第二像素单元靠近所述第一像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向相同，其靠近所述第三像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第一像素单元的畴倾斜方向相同。

本发明实施例的另一方面，提供一种显示装置，包括如上所述的阵列基板。

本发明实施例的又一方面，提供一种阵列基板制造方法，包括：

在透明基板上形成至少一个阵列结构；其中，所述阵列结构包括逐行排列的第一像素单元、第二像素单元和第三像素单元；所述像素单元由横纵交叉的栅线和数据线划分而成；

在所述像素单元中形成梳状的第一电极和面状的第二电极；所述第一电极倾斜排列，用于驱动液晶分子产生畴倾斜方向；其中，所述第一像素单元和所述第三像素单元具有单畴倾斜方向，所述第二像素单元具有多畴倾斜方向；所述第一像素单元的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向不同；所述第二像素单元靠近所述第一像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向相同，其靠近所述第三像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第一像素单元的畴倾斜方向相同。

本发明实施例提供的阵列基板及其制造方法、显示装置，阵列基板包括至少一个阵列结构，该阵列结构包括逐行排列的第一像素单元、第二像素单元和第三像素单元，其中，第一像素单元和第三像素单元具有相互对称的单畴倾斜方向，第二像素单元具有多畴倾斜方向。这样一种结构的阵列基板在加电压时，液晶分子会在电场的作用下倾斜排列，其排列方向使得从各个方向观看均无位相差，从而改善了显示装置的视角，提高了显示装置的质量。

附图说明

图1a为现有技术中一种单畴结构液晶显示器的阵列基板的结构示意图；

图1b为图1a所示的单畴结构液晶显示器从不同角度观察的对比度的模拟示意图；

图2为现有技术中一种双畴结构液晶显示器的阵列基板的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；

图4为单畴结构和双畴结构显示装置的V-T曲线比较示意图；

图5为本发明实施例提供的另一阵列基板的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种阵列基板在不同角度下的色偏情况模拟示意图；

图7为本发明实施例提供的又一阵列基板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种阵列基板制造方法的流程示意图。

具体实施方式