[发明专利]偏光片及其制备方法

权利要求书

1.一种偏光片，其包括：

至少一透明基板，其包括一第一表面，所述第一表面上形成有多个间隔设置的第一凸条，相邻两个第一凸条之间形成一第一凹槽；

其特征在于：

一第一金属层设置于所述第一凹槽的内壁表面。

2.如权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述第一凹槽的内壁表面包括所述相邻的两个第一凸条的彼此相邻且相对的侧壁以及第一表面位于该相邻的两个第一凸条之间的部分。

3.如权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述多个第一凸条平行且等间隔设置。

4.如权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述多个第一凸条中每个凸条的与其长度方向垂直相交之横截面的形状为矩形、梯形、三角形或者半圆形。

5.如权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述第一金属层的材料为铜、铝、金、钙、锂或其合金。

6.如权利要求1所述的偏光片，其特征在于，进一步包括一第一透明保护层覆盖所述第一表面的暴露部分和所述第一金属层。

7.如权利要求1所述的偏光片，其特征在于，所述透明基板进一步包括一第二表面，所述第二表面上形成有多个间隔设置的第二凸条，相邻两个第二凸条之间形成一第二凹槽，一第二金属层设置于所述第二凹槽的内壁表面。

8.如权利要求7所述的偏光片，其特征在于，进一步包括一第二透明保护层覆盖所述第二表面的暴露部分和所述第二金属层。

9.一种制备偏光片的方法，其包括：

步骤a：提供一透明基板，其包括一第一表面，该第一表面上形成有多个间隔设置的第一凸条，相邻两第一凸条之间形成一第一凹槽；

步骤b：形成一第一金属层于所述第一凹槽的内壁表面。

10.如权利要求9所述的制备偏光片的方法，其特征在于，所述步骤a中形成所述第一凸条的方法包括纳米压印或纳米光刻。

11.如权利要求9所述的制备偏光片的方法，其特征在于，所述步骤b包括以下子步骤：

步骤b1：形成一第一金属覆盖层于所述透明基板的第一表面；

步骤b2：去除所述第一凸条的远离透明基板的顶部端面上的第一金属覆盖层从而剩余的第一金属覆盖层形成仅覆盖第一凹槽的内壁表面的第一金属层。

12.如权利要求11所述的制备偏光片的方法，其特征在于，在步骤b2中所述去除第一金属覆盖层的方法包括酸处理法、光刻法或机械打磨。

13.如权利要求9所述的制备偏光片的方法，其特征在于，进一步包括一步骤c：形成一第一透明保护层覆盖所述透明基板的第一表面表面的暴露部分以及所述第一金属层。

14.如权利要求13所述的制备偏光片的方法，其特征在于，所述形成透明保护层的方法包括溶液涂渍法、热贴合、旋转涂布或伴随UV固化的聚合物成型。

15.如权利要求9所述的制备偏光片的方法，其特征在于，

步骤a中所述透明基板进一步包括一第二表面，该第二表面平行于所述第一表面，该第二表面上形成有多个间隔设置的第二凸条，相邻两第二凸条之间形成一第二凹槽；以及

步骤b中，进一步包括形成一第二金属层于所述第二凹槽的内壁表面的步骤。

16.如权利要求15所述的制备偏光片的方法，其特征在于，进一步包括一步骤d：形成一第一透明保护层覆盖所述透明基板的第一表面表面的暴露部分以及所述第一金属层。

17.一种制备偏光片的方法，其包括：

步骤A：提供一透明基板，所述透明基板包括一第一表面和一第二表面，所述第一表面上形成有多个间隔设置的第一凸条，相邻两第一凸条之间形成一第一凹槽，所述第二表面上形成有多个间隔设置的第二凸条，相邻两第二凸条之间形成一第二凹槽；

步骤B：形成一第一金属层于所述第一凹槽的内壁表面，形成一第二金属层于所述第二凹槽的内壁的表面。

18.如权利要求17所述的制备偏光片的方法，其特征在于，步骤C：形成一第一透明保护层覆盖所述第一表面的暴露部分以及所述第一金属层，形成一第二透明保护层覆盖所述第二表面的暴露部分以及所述第二金属层。