[发明专利]具有一不平整表面的基板的检视方法无效
| 申请号: | 201310021735.8 | 申请日: | 2013-01-21 |
| 公开(公告)号: | CN103943524A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
| 发明(设计)人: | 陈泰昌 | 申请(专利权)人: | 源贸科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇 |
| 地址: | 中国台湾高雄市前*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 平整 表面 检视 方法 | ||
1.一种具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,包括以下步骤:
根据一预设选取规则决定一可透介质;以及
于一基板的一粗糙面加上该可透介质,以平整该粗糙面来检视该基板。
2.如权利要求1所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,另包括以下步骤:
于该可透介质相对该基板的一侧,覆盖一透明物件层。
3.如权利要求1所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该选取规则是根据计算该可透介质与该基板的一折射差异值所设定。
4.如权利要求3所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该折射率差异値是介于0.0001至0.15之间。
5.如权利要求1所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为一固态介质。
6.如权利要求1所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为一非固态介质。
7.一种具有不平整表面的基板的检视方法,将贴附有一承载膜的一晶圆盘作为一基板,该承载膜异于该晶圆盘的一侧具有一粗糙面,其特征在于,该检视方法包括:
提供一可透介质,其中,该可透介质的一第一折射率与该基板的一第二折射率具有一折射率差异值;以及
将该可透介质施加于该粗糙面,以自该粗糙面检视该基板。
8.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,另包括:
于该可透介质相对该基板的该粗糙面的一侧,覆盖一透明物件层。
9.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,另包括:
将该可透介质固化于该粗糙面,以防止该可透介质脱离该粗糙面。
10.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,另包括:
将该可透介质液化,使该可透介质呈一液体状态。
11.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,另包括:
翻转该基板,使该可透介质贴合于该粗糙面。
12.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该折射率差异值是介于0.0001至0.15之间。
13.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为一固态介质。
14.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为一非固态介质。
15.如权利要求7所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为镜油或酒精。
16.一种具有不平整表面的基板的检视方法,将贴附有一承载膜的一晶圆盘作为一基板,该承载膜异于该晶圆盘的一侧具有一粗糙面,其特征在于,该检视方法包括:
将该基板的该粗糙面浸入一填充有一可透介质的透明容器之中,其中该可透介质的一第一折射率与该基板的一第二折射率具有一折射率差异值;以及
将该基板连动该透明容器进行翻转,以供自该粗糙面检视该基板。
17.如权利要求16所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为一固态介质。
18.如权利要求16所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为一非固态介质
19.如权利要求16所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该折射率差异值是介于0.0001至0.15之间。
20.如权利要求16所述具有不平整表面的基板的检视方法,其特征在于,该可透介质为镜油或酒精。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





