[发明专利]低辐射透明层叠体及包含其的建筑材料

说明书

技术领域

本发明涉及一种低辐射透明层叠体及包含该低辐射透明层叠体的建筑材料。

背景技术

低辐射玻璃(Low-Emissivity glass)是包含如银(Ag)一样在红外线范围中的反射率高的金属的低辐射层蒸镀成薄膜的玻璃。如上所述的低辐射玻璃在夏天反射太阳辐射热，并在冬天保存室内供暖器中所产生的红外线，以此用作带来建筑物的节能效果的功能性原材料。

一般，使用于低辐射层的银(Ag)暴露于空气中的情况下进行氧化，在上述低辐射层的上部及上述低辐射层的下部将电介质层蒸镀成抗氧化膜。如上所述的电介质层还起到增加可见光透射率的作用。

发明内容

本发明要解决的技术问题

本发明的一实例提供一种不仅确保绝热性能，而且提高耐热性，由此可执行热处理加工的(temperable)的低辐射透明层叠体。

本发明的再一实例提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。

技术方案

本发明的一实例中提供一种包括基材及涂敷层的低辐射透明层叠体。上述涂敷层是从上述基材起依次包括低辐射层、低辐射保护金属层、硅氮化物层及电介质层的多层结构形成。

上述低辐射的辐射率可以为约0.01至约0.3。

上述低辐射层可包含选自主要由银(Ag)、金(Au)、铜(Cu)、铝(Al)、铂(Pt)、离子掺杂金属氧化物及它们的组合组成的组中的至少一种。

上述低辐射层的厚度可以为约10nm至约25nm。

上述低辐射保护金属层的可见光范围的消光系数可以为约1.5至约3.5。

上述吸光金属层可包含选自主要由镍(Ni)、铬(Cr)、镍(Ni)与铬(Cr)的合金、钛(Ti)及它们的组合组成的组中的至少一种。

上述低辐射保护金属层的厚度可以为约1nm至约5nm。

上述硅氮化物层可包含：SiN_x(其中，1≤x≤1.5)；或者(Si_1-yM_y)N_z(其中，M是选自包含铝(Al)、钛(Ti)、钴(Co)及它们的组合的组中的一种，0.01≤y≤0.2，1≤z≤1.5)。

上述硅氮化物层的厚度可以为约5nm至约20nm。

上述电介质层可包含选自主要由金属氧化物、金属氮化物及它们的组合组成的组中的至少一种组分，或者在上述至少一种组分可掺杂选自包含铋(Bi)、硼(B)、铝(Al)、硅(Si)、镁(Mg)、锑(Sb)、铍(Be)及它们的组合的组中的至少一种元素。

上述电介质层可包含选自主要由钛氧化物、锡锌氧化物、锌氧化物、锌铝氧化物、锡氧化物、铋氧化物、硅氮化物(Silicon nitride)、硅铝氮化物(Silicon aluminium nitride)及它们的组合组成的组中的至少一种。

上述电介质层的厚度可以为约5nm至约60nm。

上述基材可以是具有约90％至约100％的可见光透射率的透明基材。

上述基材可以是玻璃或透明塑料基板。

上述涂敷层是在上述低辐射层的双面依次层压低辐射保护金属层及电介质层的对称的结构，上述硅氮化物层可介于上述低辐射保护金属层及上述电介质层的至少一个层之间。

上述涂敷层在最外廓的双面还可包括至少一个硅氮化物层。

本发明的再一实例中，提供一种包括上述低辐射透明层叠体的建筑材料。

有益效果

上述低辐射透明层叠体不仅确保绝热性能，而且提高耐热性，从而能够执行热处理加工。

附图说明

图1是简要表示本发明的一实例的低辐射透明层叠体剖视图。

图2是简要表示本发明的再一实例的低辐射透明层叠体的剖视图。

具体实施方式

下面，参照附图对本发明的实施例进行详细说明，以使本发明所属技术领域的普通技术人员能够容易实施。本发明能够以多种不同的形态来体现，并不局限于在此所说明的实施例。

本发明中省略了与说明无关的部分，以明确说明本发明，在说明书全文中，相同的附图标记表示相同的结构部件。

附图中扩大了厚度，以明确地表现出多个层及范围。并且，附图中放大表示一部分层及范围的厚度，以便于说明。