[发明专利]三氯硅烷的纯化

权利要求书

1.一种从包含三氯硅烷的组合物中除去至少一种含硼污染物以形成包含三氯硅烷的纯化产物的方法，该方法包括以下步骤：

i)从该组合物中部分除去含硼污染物以形成包含三氯硅烷的部分纯化组合物；及

ii)透过侧面入口将该部分纯化组合物馈入纯化塔及从该纯化塔，该纯化塔是蒸馏塔；

a)透过顶部出口，移除顶部含硼污染物流，

b)透过底部出口，移除底部含硼污染物流，及

c)透过侧面出口，移除包含三氯硅烷的纯化组合物；其中，该纯化塔的侧面出口位于该纯化塔的侧面入口的上方，或该纯化塔的侧面出口位于该纯化塔的侧面入口的下方，

其中，该含硼污染物包含BHCl2及B2H6中的至少一种及BCl3。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，该纯化组合物为纯化产物。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，该纯化塔的侧面出口位于该纯化塔的侧面入口的上方。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，该方法进一步包括将部分纯化组合物通过至少一种其它纯化装置以形成纯化产物的步骤。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，从该组合物中部分除去该含硼污染物的步骤包括：

i)透过上方入口，将该组合物馈入第一塔及从该第一塔

a)透过顶部出口，移除第一顶部含硼污染物流，及

b)透过底部出口，移除部分纯化组合物。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，从该组合物中部分除去该含硼污染物的步骤包括：

i)透过上方入口，将该组合物馈入第一塔及从该第一塔

a)透过顶部出口，移除第一顶部含硼污染物流，及

b)透过底部出口，移除包含三氯硅烷的第一部分纯化组合物；及

ii)将该第一部分纯化组合物通入至少一种其它纯化装置以形成部分纯化组合物。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，将该第一部分纯化组合物通过至少一种其它纯化装置的步骤包括：

ii)透过侧面入口，将该第一部分纯化组合物馈入第二塔及从该第二塔

a)透过顶部出口，移除第二顶部含硼污染物流，

b)透过底部出口，移除第二底部含硼污染物流，及

c)透过侧面出口，移除部分纯化组合物。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，该第二塔的侧面出口位于该第二塔的侧面入口的上方。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，该第二塔的侧面出口位于该第二塔的侧面入口的下方。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，该纯化塔的侧面出口位于该纯化塔的侧面入口的下方。

11.根据权利要求6所述的方法，其中，将该第一部分纯化组合物通过至少一种其它纯化装置的步骤包括：

ii)透过侧面入口，将该第一部分纯化组合物馈入第二塔及从该第二塔

a)透过顶部出口，移除第二顶部含硼污染物流，

b)透过底部出口，移除第二底部含硼污染物流，及

c)透过侧面出口，移除包含三氯硅烷的第二部分纯化组合物，

ii)将该第二部分纯化组合物通过至少一种其它纯化装置以形成部分纯化组合物。

12.根据权利要求4所述的方法，其中，该其它纯化装置为包括至少一种金属氧化物的处理容器。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，该处理容器包括金属氧化物床。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，该金属氧化物为硅胶。