[发明专利]用于组织治疗的孔隙率可控的装置、使用方法和制造方法有效
申请号: | 201280060271.5 | 申请日: | 2012-10-04 |
公开(公告)号: | CN103987421A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | J·E·班奇诺;C·V·坎贝尔;E·H·库利;B·M·特拉普;M·J·弗内什 | 申请(专利权)人: | W.L.戈尔及同仁股份有限公司 |
主分类号: | A61M25/10 | 分类号: | A61M25/10;A61L29/12;A61L29/14 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 江漪 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 组织 治疗 孔隙率 可控 装置 使用方法 制造 方法 | ||
1.一种气囊,所述气囊包括:
第一多孔隔膜,所述第一多孔隔膜构造成在压力下开始灌注,所述压力等于或大于达到名义尺寸所需的压力,以及
第二多孔隔膜,所述第二多孔隔膜构造成抵抗由第一隔膜在膨胀时产生的流体静力负载。
2.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜在等于或大于13个大气压的压力下开始基本上灌注。
3.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜和所述第二多孔隔膜包括ePTFE.
4.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜包括第一微观结构,而所述第二多孔隔膜包括第二微观结构,其中所述第一微观结构不同于所述第二微观结构。
5.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜包括平均流动孔尺寸,所述平均流动孔尺寸在灌注之前和灌注过程中基本上相同。
6.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜和所述第二多孔隔膜构造成灌注治疗剂。
7.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述气囊具有最终压力。
8.如权利要求7所述的气囊,其特征在于,所述气囊具有灌注率和膨胀速率,其中,在所述最终压力下,所述第一多孔隔膜的灌注率大约等于或大于膨胀速率。
9.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述气囊是可顺应的。
10.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述气囊最小程度地扩大超过名义尺寸。
11.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,具有中间部分的所述气囊以基本上与在所述中间部段内的每相邻单位面积的速率相同的每单位面积的速率进行灌注。
12.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜至少部分地设置在所述第二多孔隔膜内。
13.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,还包括第三多孔隔膜,其中所述第二多孔隔膜至少部分地位于所述第三多孔隔膜内,其中所述第三多孔隔膜便于粘合到细长构件。
14.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,治疗剂设置在所述第一多孔隔膜的外表面上。
15.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述气囊在扩张状态下的尺寸能够使体腔扩开。
16.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述气囊在比灌注开始的压力小的压力下是可透气的。
17.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,还包括支架和粘合剂,其中所述支架设置在所述气囊的至少一部分上,并且所述粘合剂将所述支架粘合到所述气囊。
18.如权利要求17所述的气囊,其特征在于,还包括溶剂,其中所述溶剂能够灌注通过所述第一多孔隔膜和所述第二多孔隔膜,并且溶解粘合剂和
19.如权利要求1所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜是可选地可灌注的。
20.如权利要求19所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜构造成灌注第一剂并且不灌注第二剂。
21.如权利要求20所述的气囊,其特征在于,所述第二剂包括对比剂。
22.一种气囊装置,所述气囊装置包括:
多孔隔膜,所述多孔隔膜构造成响应于第一压力下引入流体而扩张到扩张状态,
其中,流体在第二压力以上开始灌注通过所述多孔隔膜,所述第二压力是等于或大于所述第一压力中的至少一种,以及
治疗剂,所述治疗剂位于气囊下方的细长构件的部段上。
23.如权利要求22所述的气囊,其特征在于,所述第一多孔隔膜在等于或大于13个大气压的压力下开始基本上灌注。
24.如权利要求22所述的气囊,其特征在于,规定剂量的治疗剂灌注通过所述气囊。
25.如权利要求22所述的气囊,其特征在于,所述多孔隔膜具有基本上等于每相邻单位面积的灌注率的每单位面积的灌注率。
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