[发明专利]衬底保持器的辐射屏蔽件

权利要求书

1.一种反应腔室包括：

定位在所述反应腔室内的衬底支承构件；

具有第一区域和第二区域的所述反应腔室；

定位在所述第二区域内并可随所述衬底支承构件移动的屏蔽件；以及

其中，所述屏蔽件邻近于所述衬底支承构件的至少底部表面。

2.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述屏蔽件邻近于所述衬底支承构件的侧壁。

3.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述第一区域是衬底处理区域，而所述第二区域是衬底加载区域。

4.如权利要求3所述的反应腔室，其特征在于，所述第一区域在所述反应腔室中定位在所述第二区域上方。

5.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，还包括至少部分地分离所述第一和第二区域的隔离装置。

6.如权利要求5所述的反应腔室，其特征在于，还包括形成在所述屏蔽件和所述隔离装置之间的间隙。

7.如权利要求6所述的反应腔室，其特征在于，所述间隙在5至10mm之间。

8.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述屏蔽件与所述衬底支承构件间距的距离在5至20mm之间。

9.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述屏蔽件还包括底部构件和侧壁构件。

10.如权利要求9所述的反应腔室，其特征在于，所述底部构件和所述侧壁构件以近似为90度的角度彼此连接。

11.如权利要求9所述的反应腔室，其特征在于，所述底部构件和所述侧壁构件以近似为25至65度之间的角度彼此连接。

12.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述屏蔽件固定到所述衬底支承构件的轴上。

13.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述屏蔽件保持住所述衬底支承构件所产生的热量。

14.如权利要求1所述的反应腔室，其特征在于，所述衬底支承构件还包括加热器。

15.一种用于处理衬底的屏蔽件，包括：

具有包围所述衬底支承构件轴的孔的底部构件；

从所述底部构建成角度向上延伸的侧壁构件；

其中，所述底部构件定位在所述衬底支承构件上方，而所述侧壁构件围绕所述衬底支承构件定位；以及

其中，所述屏蔽件随所述衬底支承构件垂直地移动。

16.如权利要求15所述的用于处理衬底的屏蔽件，其特征在于，所述屏蔽件与所述衬底支承构件间距开距离为5至20mm之间。

17.如权利要求15所述的用于处理衬底的屏蔽件，其特征在于，所述屏蔽件的侧壁构件不接触反应腔室壁。

18.如权利要求15所述的用于处理衬底的屏蔽件，其特征在于，所述侧壁还包括与反应腔室表面间距开的顶表面，间距距离在5至10mm之间。

19.一种反应腔室，包括：

第一区域、第二区域和第三区域；

所述第一区域定位在所述第二区域和所述第三区域上方，并适于处理衬底；

所述第二区域定位在所述第一区域下方并适于将所述衬底加载在所述反应腔室内；

所述第三区域定位在所述第一区域和所述第二区域之间；以及

其中，所述第三区域在所述第二区域内移动。

20.如权利要求19所述的反应腔室，其特征在于，还包括屏蔽件，所述屏蔽件形成所述第二区域和所述第三区域之间的屏障。

21.如权利要求20所述的反应腔室，其特征在于，所述屏蔽件可在所述第二区域内移动。

22.如权利要求21所述的反应腔室，其特征在于，所述第三区域的体积根据所述衬底支承构件的位置变化。

23.一种对处理区域内的衬底加热的方法，包括：

在衬底支承构件下方的处理腔室内提供屏蔽件；

将所述衬底加载到所述处理腔室的处理区域内；

启动加热器；以及

从所述屏蔽件辐射热量到所述衬底支承构件。