[发明专利]热敏头以及具备该热敏头的热敏打印机有效

专利信息
申请号: 201280056975.5 申请日: 2012-11-26
公开(公告)号: CN103946028A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 越智康二;舛谷浩史;元洋一;藤原义彦 申请(专利权)人: 京瓷株式会社
主分类号: B41J2/335 分类号: B41J2/335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 热敏 以及 具备 打印机
【权利要求书】:

1.一种热敏头,其特征在于,

具备:

基板、

在该基板上设置的电极、

与该电极连接且一部分作为发热部起作用的电阻体、和

设置在所述电极上和所述发热部上的保护层,其中,

该保护层具有:

包含硅氮化物或硅氧化物的第1层、和

设置在该第1层上且包含钽氧化物和硅氮氧化物的第2层。

2.根据权利要求1所述的热敏头,其中,

所述第2层中,以原子比计O相对于Ta为2.02至3.71。

3.根据权利要求1或2所述的热敏头,其中,

所述第2层含有13~38原子%的Si、17~49原子%的O、14~40原子%的N和5~24原子%的Ta。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的热敏头,其中,

所述第2层中,以原子比计N相对于Ta为0.57至8.61。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的热敏头,其中,

所述保护层中,在所述第1层与所述第2层之间还具有包含硅氮氧化物的密接层。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的热敏头,其中,

所述保护层中,在所述第1层与所述第2层之间还具有包含钽氮化物的密接层。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的热敏头,其中,

所述保护层中,在所述第2层上还具有包含钽硅氧化物的第3层。

8.根据权利要求7所述的热敏头,其中,

所述第3层中,Ta的含量比位于所述第2层侧的部位多的富Ta区域被设置于位于与所述第2层相反侧的部位。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的热敏头,其中,

所述保护层中,在所述第2层上还具有包含钽氧化物的第3层,

该第3层中,Ta的含量比位于所述第2层侧的部位多的富Ta区域被设置于位于与所述第2层相反侧的部位。

10.一种热敏打印机,其特征在于,具备:

权利要求1至9中任一项所述的热敏头;

输送机构,其向所述发热部上输送记录介质;和

压印辊,其向所述发热部上按压所述记录介质。

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