[发明专利]真空处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及真空处理装置。

背景技术

图7是以往的真空处理装置100的内部结构图。

该真空处理装置100具有真空槽111。在真空槽111内配置有载置台121，在设在载置台121上的贯通孔124中插入着升降销127。

如果使升降装置128动作、使升降销127上升，则载置台121上的基板131被载置在升降销127的上端，从载置台121的载置面离开。如果使升降销127下降，则升降销127上的基板131下降而接触在载置台121的载置面上，被载置到载置面上。附图标记117是将载置台121上的基板131加热的加热器。

如果一边用真空排气装置115将真空槽111内真空排气、一边从气体放出装置114向真空槽111内放出气体，则放出的气体的一部分经过基板131的背面与载置台121的载置面之间的间隙流入到贯通孔124的内侧。

结果，在载置台121的载置面中的贯通孔124的周围气体流紊乱，有形成在基板131的表面上的膜的膜厚变薄的问题。

此外，有流入到贯通孔124的内侧的气体附着到贯通孔124的内壁面上、成为粒子源的问题。

专利文献1：特开2001－199791号公报。

发明内容

本发明是为了解决上述以往技术的不好之处而做出的，目的是提供一种能够防止气体流入到被插入了升降销的载置台的贯通孔中的真空处理装置。

为了解决上述课题，本发明是一种真空处理装置，具有：真空槽；载置台，在台载置面上载置基板，所述台载置面朝向上方且配置于上述真空槽内；凹陷，设在上述台载置面上；贯通孔，设在上述载置台上，开口在上述凹陷的内部表面上露出；升降销，被插入到上述贯通孔中，上端连接在上述盖部件上；升降装置，使上述升降销升降移动；和盖部件，设在上述升降销的上端，通过由上述升降装置进行的上述升降销的升降移动，能够在上述凹陷的内部的位置与比上述凹陷靠上方的位置之间升降移动；在上述凹陷的上述内部表面上，设有将上述开口以环状包围的环状的密封部件；通过上述升降销的下降移动，上述盖部件中上述盖部件的背面和上述凹陷的上述内部表面与上述密封部件接触，上述密封部件被推压而变形；上述盖部件在上述盖部件与上述密封部件接触的部分、和上述凹陷的上述内部表面与上述密封部件接触的部分将上述开口分别以环状包围的状态下，配置在上述凹陷的内部。

本发明是一种真空处理装置，具有弹性部件，当上述密封部件被推压时，上述弹性部件变形，通过使变形复原的力推压上述密封部件。

本发明是一种真空处理装置，上述盖部件的背面和上述凹陷的上述内部表面构成为，在比上述凹陷和上述盖部件接触在上述密封部件上的位置靠上方以环状接触。

本发明是一种真空处理装置，在上述凹陷的上述内部表面的底面中，具有边缘部，所述边缘部为将上述开口以环状包围的部分；上述密封部件配置在上述边缘部上；上述密封部件与上述盖部件的上述背面接触。

本发明是一种真空处理装置，具有缓冲部件；如果上述升降销上升，则通过上述升降销经由上述缓冲部件使上述盖部件向上方移动。

本发明是一种真空处理装置，如果使上述升降销下降，则上述弹性部件被压缩。

本发明是一种真空处理装置，如果使上述升降销下降，则上述弹性部件被拉伸。

本发明是一种真空处理装置，使上述凹陷的侧面成为朝向上方的倾斜。

本发明是一种真空处理装置，上述盖部件的材质与上述载置台的材质相同。

由于通过盖部件接触在密封部件上，将密封部件的内侧的空间与外侧的空间分离，所以密封部件的外侧的气体不流入到密封部件的内侧的贯通孔的内侧，贯通孔的内侧被保持为清洁，防止粒子的发生。

在气体流被用于重要的成膜处理（例如ALD）的情况下，由于气体不流入到贯通孔的内侧，所以能够防止贯通孔的周围的气体流的紊乱，能够改善在载置台上的基板上形成的膜的膜厚分布。

附图说明

图1是本发明的真空处理装置的内部结构图。

图2是图1的用附图标记A表示的部分的放大图。

图3是用来说明弹性部件被压缩、盖部件被推压在密封部件上的状态的图。

图4是用来说明基板被载置在盖部件上、从载置台的载置面离开的状态的图。

图5是用来说明弹性部件的配置的另一例的图。

图6是载置台的B－B线切断剖面图。

图7是以往的真空处理装置的内部结构图。

具体实施方式

<真空处理装置的构造>