[发明专利]利用阻隔红外传感器确定绝对辐射值的方法和装置

权利要求书

1.一种利用受阻隔的红外传感器来确定绝对辐射值的方法，包含：

捕捉来自屏蔽红外传感器的信号，屏蔽红外传感器实质上受阻隔无法接收来自场景的红外辐射；

捕捉来自未屏蔽红外传感器的信号，未屏蔽红外传感器设置为接收来自场景的红外辐射，而所述屏蔽红外传感器保持实质上受阻隔而无法接收来自场景的红外辐射；

基于捕捉到的屏蔽红外传感器的信号确定屏蔽和未屏蔽红外传感器的平均热像偏移参考；

基于平均热像偏移参考和捕捉到的未屏蔽红外传感器的信号确定场景的绝对辐射值；

其中，在没有使用温度控制快门的情况下确定绝对辐射值；

其中，所述平均热像偏移参考进一步基于：

屏蔽红外传感器的响应度，以及

由屏蔽红外传感器从圆片级封装的组件接收到的红外辐射；以及

其中，所述绝对辐射值进一步基于由未屏蔽红外传感器从所述组件接收到的红外辐射和未屏蔽红外传感器的特定传感器热像偏移参考，所述特定传感器热像偏移参考包括来自平均热像偏移参考的另一偏移参考；以及

所述方法进一步包含利用非均匀校正(NUC)项或工厂增益项确定特定传感器热像偏移参考。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

屏蔽和未屏蔽红外传感器是所述圆片级封装的一部分。

3.根据权利要求2所述的方法，进一步包含：

检测圆片级封装的组件的温度；以及

基于检测到的温度确定来自组件的红外辐射。

4.根据权利要求1所述的方法，进一步包含基于绝对辐射值确定场景的温度。

5.根据权利要求1所述的方法，进一步包含：

完成多个屏蔽红外传感器和多个未屏蔽红外传感器的捕捉操作，其中捕捉到的未屏蔽红外传感器的信号提供包含多个像素的场景的热图像；以及

基于以下为每一个像素确定场景的绝对辐射值：

对应的捕捉到的与像素关联的未屏蔽红外传感器的信号，以及

平均热像偏移参考，其中平均热像偏移参考进一步基于捕捉到的屏蔽红外传感器的信号的平均值。

6.根据权利要求1所述的方法，其中：

屏蔽和未屏蔽红外传感器是所述圆片级封装的一部分；以及

屏蔽红外传感器实质上被圆片级封装的帽状物阻隔。

7.根据权利要求1所述的方法，其中屏蔽和未屏蔽红外传感器是微测辐射热计。

8.根据权利要求1所述的方法，

其中，确定所述平均热像偏移参考为将多个屏蔽红外传感器的捕捉的信号的平均值减去所述多个屏蔽红外传感器的响应度的平均值与屏蔽红外传感器从所述组件接收到的总入射辐射的乘积，其中所述组件包括屏蔽。

9.一种利用受阻隔的红外传感器来确定绝对辐射值的装置，包含：

实质上受阻隔无法接收来自场景的红外辐射的屏蔽红外传感器；

未屏蔽红外传感器，该未屏蔽红外传感器配置为接收来自场景的红外辐射，而所述屏蔽红外传感器保持实质上受阻隔而无法接收来自场景的红外辐射；以及

处理装置，该处理装置配置为：

基于从屏蔽红外传感器捕捉到的信号确定屏蔽和未屏蔽红外传感器的平均热像偏移参考；

基于平均热像偏移参考和从未屏蔽红外传感器捕捉到的信号确定场景的绝对辐射值；

其中，在没有使用温度控制快门的情况下确定绝对辐射值；

其中，所述平均热像偏移参考进一步基于：

屏蔽红外传感器的响应度，以及

由屏蔽红外传感器从圆片级封装的组件接收到的红外辐射；以及

其中，所述绝对辐射值进一步基于由未屏蔽红外传感器从所述组件接收到的红外辐射和未屏蔽红外传感器的特定传感器热像偏移参考，所述特定传感器热像偏移参考包括来自平均热像偏移参考的另一偏移参考；以及

所述处理装置进一步适合利用非均匀校正(NUC)项或工厂增益项确定特定传感器热像偏移参考。