[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

说明书

技术领域

本发明关于用以对薄膜及片材等薄膜机板施以图案化等高精度加工的基板处理装置、以及薄膜基板的搬送装置。又，本发明的目的在提供一种用以实施高精度加工的基板处理方法。

本申请案主张2011年11月4日申请的日本国特愿2011－242788号的优先权，将其内容援用于此。

背景技术

作为构成显示器装置等显示装置的显示元件，例如以有液晶显示元件、有机电激发光(有机EL)元件、用于电子纸的电泳元件等。作为制造此等元件的手法之一，例如有一种被称为卷对卷(roll to roll)方式(以下，简称(卷绕方式))的手法(例如，参照专利文献1)。

此种卷绕方式，送出卷绕在基板供应侧滚轮的一片片状(sheet状)基板(web)并将送出的基板以基板回收侧滚轮一边加以卷绕一边搬送基板，在送出基板至被卷绕的期间，将显示电路及驱动电路等图案依序形成基板上的手法。近年来，已提出了一种形成高精度图案的处理装置。

先行技术文献

[专利文献1]国际公开第2006/100868号

发明内容

发明欲解决的课题

然而，因应更高精度化的情形时，若仅要求处理装置的图案化精度(高解析、转印图案的低失真等)是不足够的。

本发明态样的目的，在提供一种可进行高精度处理的基板处理装置、或精密搬送薄膜基板的装置。此外，本发明另一态样的目的，在提供一种可进行高精度处理的基板处理方法。

用以解决课题的手段

本发明第1态样，提供一种基板处理装置，将基板搬送于第1方向并对该基板的被处理面进行处理，具备：将该基板引导于该第1方向的第1引导构件；与该第1引导构件分离配置、用以引导被该第1引导构件引导的该基板的第2引导构件；在该第1引导构件与该第2引导构件之间对该基板赋予张力，以使该基板在与该第1方向交叉的第2方向的尺寸缩小的张力赋予机构；以及在该第1引导构件与该第2引导构件之间，对该基板的被处理面进行处理的处理装置。

本发明的第2态样，提供一种基板处理方法，将片状的长条基板搬送于长度方向，于该基板上依序形成既定图案，具备；取得使该基板的待形成该图案的部分区域在与该长度方向正交的宽度方向收缩时的收缩程度相关的资讯的步骤；以及于该长度方向夹着该基板的部分区域的特定2处位置之间，根据与该收缩程度相关的资讯对该基板赋予长度方向的张力的步骤。

发明效果

根据本发明的态样，可提供一种能进行高精度处理的基板处理装置。此外，根据本发明的另一态样，可提供一种能进行高精度处理的基板处理方法。

附图说明

图1：本实施形态的基板处理装置的全体构成的示意图。

图2：显示本实施形态的处理装置的第1构成的前视图。

图3：上方观察图2的第1构成的俯视图。

图4：显示本实施形态的基板伸缩状态的图。

图5：显示以第1模拟进行的基板收缩的变化的图表。

图6：显示以第2模拟进行的基板收缩的变化的图表。

图7：显示以第3模拟进行的基板收缩的变化的图表。

图8：显示从模拟结果求出基板收缩的条件的图表。

图9：显示本实施形态的处理装置的第2构成的俯视图。

图10：显示本实施形态的处理装置的第3构成的前视图。

图11：从上方观察图10所示的第3构成的俯视图。

图12：显示本实施形态的处理装置的第4构成的图。

图13：显示以图12的第4构成进行处理的基板的状态的图。

图14：显示本实施形态的处理装置的第5构成的俯视图。

图15：显示本实施形态的处理装置的第6构成的俯视图。

图16：从横方向观察图15的第6构成的前视图。

具体实施方式

《第1实施形态》

以下，参照图式说明本实施形态。

图1显示本实施例的基板处理装置100的构成的示意图。

如图1所示，基板处理装置100具有供应带状基板(例如，带状的片状构件)S的基板供应部2、对基板S的表面(被处理面)Sa进行处理的基板处理部(图案形成装置)3、回收基板S的基板回收部4、以及控制此等各部的控制部CONT。基板处理部3，在将基板S从基板供应部2送出、至以基板回收部4回收基板S为止的期间，对基板S的表面实施各种处理。