[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，将基板搬送于第1方向并对所述基板的被处理面进行处理，具备：

第1引导构件，将所述基板引导于所述第1方向；

第2引导构件，与所述第1引导构件分离配置，用以引导被所述第1引导构件引导的所述基板；

张力赋予机构，在所述第1引导构件与所述第2引导构件之间对所述基板赋予张力，以使所述基板在与所述第1方向交叉的第2方向的尺寸缩小；以及

处理装置，在所述第1引导构件与所述第2引导构件之间，对所述基板的被处理面进行处理。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，其进一步具备支承从所述第1引导构件至所述第2引导构件之间搬送的所述基板的一部分的基板支承部。

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板支承部形成为具有圆筒面或凸面的形状。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板支承部以旋转圆筒体构成。

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，其进一步具备使所述旋转圆筒体以对应所述基板搬送速度的圆周速度旋转的驱动部。

6.如权利要求2至5任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述基板支承部具有在与所述基板之间形成支承所述基板的气体层的气体层形成部。

7.如权利要求1至6任一项所述的基板处理装置，其特征在于，其进一步具备检测既定基准图案的检测部。

8.如权利要求1至7任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述既定基准图案设于所述基板。

9.如权利要求7或8所述的基板处理装置，其特征在于，所述张力赋予机构根据所述检测部的检测结果，控制对所述基板赋予的张力的大小。

10.如权利要求7至9任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理装置具有将经由光罩的曝光用光照射于所述基板的曝光装置；

所述曝光装置具有使所述光罩移动的光罩载台；

并进一步具备根据所述检测结果使所述光罩载台移动的载台驱动部。

11.如权利要求7至10任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述检测部能检测设于多处的基准图案。

12.如权利要求1至11任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述处理装置具有将经由光罩的曝光用光照射于所述基板的曝光装置；

所述曝光装置具有使所述光罩移动的光罩载台；

所述光罩载台具有能保持形状或尺寸不同的多种光罩的光罩保持部。

13.如权利要求1至12任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述第1引导构件与所述第2引导构件分别包含于所述基板的搬送方向分开距离L配置、与所述基板摩擦接触加以引导的驱动滚轮，所述张力赋予机构以所述驱动滚轮来赋予所述第1方向的张力。

14.如权利要求1至13任一项所述的基板处理装置，其特征在于，于所述第1方向上设有多个所述处理装置。

15.一种基板处理方法，将片状的长条基板搬送于长度方向，于所述基板上依序形成既定图案，具备；

取得使所述基板的待形成所述图案的部分区域在与所述长度方向正交的宽度方向收缩时的收缩程度相关的资讯的步骤；以及

于所述长度方向夹着所述基板的部分区域的特定2处位置之间，根据与所述收缩程度相关的资讯对所述基板赋予长度方向的张力的步骤。

16.如权利要求15所述的基板处理方法，其特征在于，其以具备在所述基板上形成所述图案的图案形成部、与将所述基板相对图案形成部移送于所述长度方向的基板搬送部的图案形成装置来实施；

所述图案形成部在赋予所述张力的步骤中的所述基板的部分区域形成所述图案。

17.如权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，所述基板搬送部具备分别配置在将所述基板的部分区域于所述长度方向夹着的特定2处位置，接触保持所述基板的基板引导构件；

赋予所述张力的步骤，在所述2处的基板引导构件之间对所述基板赋予长度方向的张力。

18.如权利要求17所述的基板处理方法，其特征在于，所述2处的基板引导构件的各个通过摩擦接触来将所述基板搬送于长度方向的一对旋转滚轮构成，赋予所述张力的步骤通过所述一对旋转滚轮的旋转力矩之差来赋予。