[发明专利]树脂组合物有效
申请号: | 201280052315.X | 申请日: | 2012-08-30 |
公开(公告)号: | CN103890088A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 鹤井一彦;中村茂雄;巽志朗 | 申请(专利权)人: | 味之素株式会社 |
主分类号: | C08L63/00 | 分类号: | C08L63/00;B32B27/38;C08K3/00;C08K5/00;H01L23/14;H05K1/03 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢曼;李炳爱 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 树脂 组合 | ||
技术领域
本发明涉及树脂组合物。进一步涉及含有该树脂组合物的粘接薄膜、预浸料、多层印刷线路板、半导体装置。
背景技术
近年来,电子机器的小型化、高性能化得到发展,在多层印刷线路板中,堆叠(build up)层多层化,要求配线的微细化以及高密度化。
对此进行了各种努力。例如,专利文献1中公开了含有有机硅烷氧基低聚物的树脂组合物。其中记载了由这些组合物形成的绝缘材料能够具备粘接性。此外,专利文献2~4中进行了一般性的配合研究。但是,其性能不一定得到满足。
现有技术文献
专利文献
[专利文献1]日本特开2006-117826号公报
[专利文献2]日本专利第4674730号
[专利文献3]日本专利第4686750号
[专利文献4]日本专利第4782870号。
发明内容
发明要解决的课题
本发明要解决的课题是提供一种树脂组合物,其中,在湿式粗糙化工序中绝缘层表面的算术平均粗糙度、均方根粗糙度小,能够在其上形成具有充分的剥离强度的镀敷导体层,还具有PCT(Pressure Cooker Test,压力锅试验)耐性。
解决课题用的手段
本发明人等为了解决上述课题进行了深入的研究,结果发现一种树脂组合物,其含有(A)环氧树脂、(B)固化剂、(C)无机填充材料,其特征在于,将上述无机填充材料用特定的有机化合物进行表面处理,由此完成了本发明。
即,本发明包括以下的内容:
[1]树脂组合物,其是含有(A)环氧树脂、(B)固化剂、(C)无机填充材料的树脂组合物,其特征在于,在该树脂组合物中,将上述无机填充材料用具有羟基和反应性基团、且沸点为100℃以上的有机化合物进行表面处理;
[2]根据上述[1]所述的树脂组合物,其特征在于,上述有机化合物的反应性基团是选自氨基、环氧基、巯基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、乙烯基和脲基中的1种以上的反应性基团;
[3]根据上述[1]所述的树脂组合物,其特征在于,上述有机化合物是选自下式(1)的化合物、下式(2)的化合物、下式(3)的化合物、咪唑化合物和咪唑-环氧加合物中的1种以上的有机化合物,
[化1]
R1、R2分别独立地为苯基、苄基、氢原子或碳原子数1~5的烷基;R3为碳原子数1~5的亚烷基或亚苯基,
[化2]
R4为碳原子数1~5的亚烷基或亚苯基,
[化3]
R5为具有羟基的有机基团;R6为氢原子、甲基、羧基或苯基;
[4]根据上述[1]~[3]中任一项所述的树脂组合物,其特征在于,将(C)无机填充材料设为100质量%时,上述有机化合物为0.05~2质量%;
[5]根据上述[1]~[4]中任一项所述的树脂组合物,其特征在于,将(C)无机填充材料用上述有机化合物进行表面处理之后,进一步用选自硅烷偶联剂、烷氧基硅烷、烷氧基低聚物、铝类偶联剂、钛类偶联剂和锆类偶联剂中的1种以上进行表面处理;
[6]根据上述[1]~[5]中任一项所述的树脂组合物,其特征在于,在(C)无机填充材料的表面上结合的每单位面积的碳量为0.05~1.00mg/m2;
[7]根据上述[1]~[6]中任一项所述的树脂组合物,其特征在于,将树脂组合物固化而形成绝缘层,对该绝缘层表面进行粗糙化处理,进行镀敷而得到导体层,该导体层与绝缘层的剥离强度为0.4kgf/cm~1.5kgf/cm,将树脂组合物固化而形成绝缘层,对该绝缘层表面进行粗糙化处理后的算术平均粗糙度为10nm~300nm,均方根粗糙度为10nm~480nm;
[8]片状叠层材料,其特征在于,含有上述[1]~[7]中任一项所述的树脂组合物;
[9]多层印刷线路板,其中,由上述[1]~[7]中任一项所述的树脂组合物的固化物形成了绝缘层;
[10]半导体装置,其特征在于,使用上述[9]所述的多层印刷线路板。
发明效果
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