[发明专利]作为MGLUR5变构调节剂的乙炔基衍生物

权利要求书

1.式I的乙炔基衍生物

其中

U    是N或CH，

R⁸   是氢、卤素、低级烷基或低级烷氧基；

Y    是-N(R⁴)-、-O-或-C(R⁵R^5’)-；

其中，R⁴是氢或低级烷基，且R⁵／R^5’独立地是氢、羟基、低级烷基或低级烷氧基；

V    是—N(R⁶)-或-C(R⁷R^7’)，

其中，R⁶是氢或低级烷基，且R⁷/R^7’彼此独立地是氢、低级烷基、CH₂-低级烷氧基或者可以与它们所连接的碳原子一起形成C₃-C₆-环烷基；

R¹   是苯基或杂芳基，所述苯基或杂芳基任选被卤素、低级烷基或低级烷氧基取代；

m    是0或1；在m是1的情况下，

R³／R^3’彼此独立地是氢、低级烷基、CH₂-低级烷氧基或者可以与它们所连接的碳原子一起形成C₃-C₆-环烷基；

n    是0或1；在n是1的情况下，

R²／R^2’彼此独立地是氢、低级烷基、CH₂-低级烷氧基或者可以与它们所连接的碳原子一起形成C₃-C₆-环烷基；

或者如果m是1且n是0，则R³和R⁷可以与它们所连接的碳原子一起形成C_4-6-环烷基；

或者如果m是1且n是1，则R²和R³或R³和R⁷可以与它们所连接的碳原子一起形成C_4-6-环烷基；

或它们的药用酸加成盐，外消旋混合物，或其对应的对映体和／或光学异构体和／或立体异构体。

2.根据权利要求1的式I-1的乙炔基衍生物

其中

U    是N或CH；

R⁸   是氢；

Y    是CH₂、O、-N(CH₃)-或-N(CH₂CH₃)-；

V    是CH₂、-NH-或-N(CH₃)-；

R¹   是苯基或吡啶基，所述苯基或吡啶基任选被卤素取代；

m    是0或1；在m是1的情况下，

R³/R^3’彼此独立地是氢或低级烷基，

n    是1；

R²／R^2’彼此独立地是氢或低级烷基；

或它们的药用酸加成盐，外消旋混合物，或其对应的对映体和／或光学异构体和／或立体异构体。