[发明专利]腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置

权利要求书

1.一种腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置，包括处理腔室、传输腔室、以及装载锁腔室，上述腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置其特征在于，包括：

盒式腔室，其设置于上述各腔室之间，且在彼此相对的两侧分别形成有提供基片出入的通道的狭缝，并在内部提供容纳狭缝阀的空间，该狭缝阀具备各自为了开闭上述狭缝而进行升降动作的第一阀板和第二阀板；排气检测部，其在上述各腔室检测注入排出气体的排气工序；盒式腔室等压部，其由各自连接上述各腔室和盒式腔室的第一和第二旁通管路、以及各自设置于上述第一和第二旁通管路上并在各旁通管路控制气体的流动的第一和第二控制阀构成，且在上述各腔室执行排气工序时在以上述第一和第二阀板分别密封了上述盒式腔室的两侧狭缝的状态下，将已注入上述各腔室的气体旁通至上述盒式腔室而在执行排气工序的腔室与盒式腔室之间造成等压状态；以及控制部，其根据在上述排气检测部所检测的信号判断上述各腔室的排气工序或真空工序而控制上述盒式腔室等压部的气体的流动。

2.根据权利要求1所述的腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置，其特征在于，

进一步包括连接于上述各腔室而向各腔室注入排出气体的排气阀，上述排气检测部由设置于上述排气阀侧且检测用于使排气阀以打开和关闭状态动作的电信号的排气阀检测传感器构成。

3.根据权利要求1所述的腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置，其特征在于，

上述狭缝阀进一步包括连接上述第一阀板和第二阀板的连接部件，上述第一阀板和第二阀板由一个驱动机构而同时驱动。