[发明专利]高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法有效
| 申请号: | 201280029849.0 | 申请日: | 2012-06-20 |
| 公开(公告)号: | CN103608368A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
| 发明(设计)人: | 盐谷优子;田中义人;三木淳 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
| 主分类号: | C08F214/22 | 分类号: | C08F214/22;B01D71/34;B01D71/36;C08F8/00;C08F214/26;C08J9/28 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;张志楠 |
| 地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 高分子 多孔 质膜 制造 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法。更详细地说,本发明涉及作为水处理中使用的微孔过滤膜或超滤膜适宜的高分子多孔质膜及其制造方法。
【背景技术】
近年来,对于多孔质膜,以净水处理、废水处理等水处理领域、血液净化等医疗用途、食品工业领域等为代表,其在荷电膜、电池用分离板、燃料电池等各种方面加以利用。
例如,在净水处理用途或废水处理用途等水处理领域中,为了代替现有的砂滤、凝集沉淀过程或为了提高处理水质而使用多孔质膜。在这样的水处理领域,由于处理水量大,因而要求多孔质膜的透水性能优异。若透水性能优异,则可减少膜面积,因而可使净水装置简洁、可期待设备的低成本化。
此外,在净水处理中,为了对膜进行试剂清洗,利用碱溶液等对膜进行清洗,要求多孔质膜具有耐化学药品性能。近年来对于使用作为高耐化学药品性材料的聚偏二氟乙烯树脂等含氟聚合物的多孔质膜进行了研究(例如参照专利文献1~14)。但是,现有的多孔质膜在透水性方面还不充分,有改善的余地。
【现有技术文献】
【专利文献】
专利文献1:日本特开2009-203584号公报
专利文献2:日本特表平10-512194号公报
专利文献3:日本特开昭63-248405号公报
专利文献4:日本特开昭63-248406号公报
专利文献5:日本特开昭58-98105号公报
专利文献6:国际公开2003/106545号小册子
专利文献7:日本特开2003-138422号公报
专利文献8:日本特开2003-236351号公报
专利文献9:日本特开平3-38228号公报
专利文献10:日本特开平3-38227号公报
专利文献11:日本特表2005-522316号公报
专利文献12:日本特开昭61-4504号公报
专利文献13:日本特公昭63-11370号公报
专利文献14:日本特开2007-167839号公报
【发明内容】
【发明所要解决的课题】
本发明在于提供透水性及耐碱性优异、同时具有优异的机械强度的高分子多孔质膜。
【解决课题的手段】
本发明高分子多孔质膜的特征在于,其含有具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物(A)。
本发明的高分子多孔质膜优选含有偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元以摩尔比计为50~90/50~10的含氟聚合物(A)。
本发明的高分子多孔质膜中,优选以XPS(X射线光电子能谱法)测定的表面上的O元素含量相对于F元素含量的比例(O/F)为0.050以上且小于0.150。此外,优选以XPS(X射线光电子能谱法)测定的表面上的C-F键相对于C-H键的比例(C-F/C-H)大于0.50。
上述含氟聚合物(A)还优选进一步具有下式(1)所表示的单元(下文中也称为式(1)单元)。
-CHX1-CX2(OR)-···(1)
(式中,X1和X2中的一个为氢原子、另一个为氟原子,R为氢原子和碳原子数为1~8的烷基中的任意一种。)。
此处,上述式(1)中的R优选为氢、甲基或乙基。
本发明高分子多孔质膜的制造方法的特征在于,对于具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物(A′)至少进行成型为多孔质膜状的工序。
本发明的高分子多孔质膜的制造方法中,优选在上述成型为多孔质膜状的工序中通过非溶剂诱导相分离法和/或热诱导相分离法得到多孔质膜状的成型物。
本发明的高分子多孔质膜的制造方法中,优选进一步进行在水和/或碳原子数为1~8的醇的存在下实施碱处理的工序。
此处,上述醇优选为乙醇或者甲醇。
本发明的高分子多孔质膜的制造方法中,优选上述含氟聚合物(A′)中的偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元以摩尔比计为50~90/50~10。
上述高分子多孔质膜优选为中空纤维膜。此外,上述高分子多孔质膜优选为水处理用高分子多孔质膜。
【发明的效果】
本发明的高分子多孔质膜由于为上述构成,因而透水性及耐碱性优异、同时具有优异的机械强度。
利用本发明的高分子多孔质膜的制造方法能够适宜地制造上述高分子多孔质膜。
【具体实施方式】
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