[发明专利]高分子多孔质膜和高分子多孔质膜的制造方法

权利要求书

1.一种高分子多孔质膜，其特征在于，其含有具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物(A)。

2.根据权利要求1所述的高分子多孔质膜，其含有偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元以摩尔比计为50～90/50～10的含氟聚合物(A)。

3.根据权利要求1或2所述的高分子多孔质膜，其中，以XPS测定的表面上的O元素含量相对于F元素含量的比例即O/F为0.050以上且小于0.150，XPS即X射线光电子能谱法。

4.根据权利要求1、2或3所述的高分子多孔质膜，其中，以XPS测定的表面上的C-F键相对于C-H键的比例即C-F/C-H大于0.50，XPS即X射线光电子能谱法。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的高分子多孔质膜，其中，含氟聚合物(A)具有下式(1)所表示的单元，

-CHX¹-CX²(OR)-···(1)

式(1)中，X¹和X²中的一个为氢原子、另一个为氟原子，R为氢原子和碳原子数为1～8的烷基中的任意一种。

6.根据权利要求5所述的高分子多孔质膜，其中，所述式(1)中的R为氢、甲基或乙基。

7.根据权利要求1、2、3、4、5或6所述的高分子多孔质膜，其为中空纤维膜。

8.根据权利要求1、2、3、4、5、6或7所述的高分子多孔质膜，其为水处理用高分子多孔质膜。

9.一种高分子多孔质膜的制造方法，其为制造权利要求1、2、3、4、5、6、7或8所述的高分子多孔质膜的方法，其特征在于，

该制造方法中，对具有偏二氟乙烯单元和四氟乙烯单元的含氟聚合物(A′)至少进行成型为多孔质膜状的工序。

10.根据权利要求9所述的高分子多孔质膜的制造方法，其中，在所述成型为多孔质膜状的工序中，通过非溶剂诱导相分离法和/或热诱导相分离法得到多孔质膜状的成型物。

11.根据权利要求9或10所述的高分子多孔质膜的制造方法，其进一步进行在水和/或碳原子数为1～8的醇的存在下实施碱处理的工序。

12.根据权利要求11所述的高分子多孔质膜的制造方法，其中，所述醇为乙醇或者甲醇。

13.根据权利要求9、10、11或12所述的高分子多孔质膜的制造方法，其中，所述含氟聚合物(A′)中的偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元以摩尔比计为50～90/50～10。