[发明专利]用于吸附待处理物件的真空吸盘中的缓冲片

说明书

技术领域

实施方式涉及一种缓冲片，更具体地涉及用于支持平面显示板、半导体晶片等中的工件的真空吸盘的缓冲片。

背景技术

一般来说，可以在对用于显示装置（广泛用于笔记本电脑、台式电脑、和电视）的玻璃基板进行精确切割操作或精确喷涂操作中无需移动的情况下固定玻璃基板的位置。此外，可以在对半导体晶片进行精确切割操作或精确喷涂操作中无需移动的情况下固定半导体晶片的位置。

真空支持的方法一般用于固定工件如玻璃基板或半导体晶片。该方法是利用真空吸盘3以如将在图1中所示的真空支持的方式来固定工件4。在此，在真空吸盘3的表面上形成通风孔1以支持工件4，其中通风孔1经由吸入孔2接受负压和静压。

也就是说，工件4置于真空吸盘3的通风孔1上并且通过与吸入孔2连接的真空泵（未示出）减压，使得真空吸盘3的内部可以成为减压状态以在无需移动的情况下固定工件4。

顺便说明，常规的真空吸盘3由硬质材料如金属制造，其可能会通过接触而对工件4如玻璃造成损伤。此外，包括工件4在内的电子商品可能会因在工件4和真空吸盘3之间产生的静电而损坏和具有高剥离电压。

为了解决这些问题，可以在真空吸盘3和工件4之间插入缓冲片5。当支持工件4时，缓冲片5吸收震动，使得工件不会损坏。此外，缓冲片5具有导电性，因此其防止因静电造成的损伤并降低剥离电压。缓冲片5是多孔材料，因此当被真空吸盘支持时工件可以保持其支持力，并且真空吸盘的通风孔不会被在LCD制造期间产生的异物堵塞。此外，缓冲片5的周期性更换可以比较简单。

常规的缓冲片5由橡胶片制造。然而，橡胶片摩擦系数大。因此，当在加工中或加工后转移工件时操作效率可能较差。此外，橡胶孔隙率差，因此难以支持工件。为了解决这些问题，可以将聚乙烯粉末的烧制多孔膜有机体（organizer）（sunmap,NITTO DENKO CO.LTD.）用于缓冲片5。该膜是多孔的以使来自真空吸盘的支持力传递至工件，而且摩擦系数也低。

然而，由于其材料的性质，聚乙烯膜可能不具有导电性。因此，需要单独加入导电材料以防止与玻璃基板的静电。但是，常规的缓冲片具有约10¹⁰ohm/sq的电阻，其不足以抗静电。此外，聚乙烯膜较昂贵并且通风性能低。

发明内容

本发明的技术目的

本发明构思提供了用于一种具有优良的支持工件的吸附力以及优良的抗静电效果的真空吸盘的缓冲片。

本发明构思还提供了一种用于材料廉价且操作效率优异的真空吸盘的缓冲片。

本发明的技术方案

根据本发明构思的示例性实施方式，用于真空吸盘的缓冲片结合至通过支持来固定工件的真空吸盘的上表面上。工件设置于缓冲片上。缓冲片包括无纺布片和ESD涂层。ESD涂层包括碳纳米管并且设置于无纺布片上。

无纺布片可以包括聚乙烯和聚对苯二甲酸乙二醇酯。在此，无纺布片可以由被低密度聚乙烯包封的聚对苯二甲酸乙二醇酯单元组形成。

在无纺布片和ESD层之间可以进一步包括底层（primer layer）以提高ESD涂层的粘附力。

ESD层通过施加CNT涂覆溶液形成。CNT涂覆溶液包括溶剂。CNT涂覆溶液包括与溶剂混合的苯氧基、丙烯基氨基甲酸酯分散体（AUD）、羧基改性的乙烯基共聚物、水性聚氨酯、聚酯、和聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种树脂。此外，CNT涂覆溶液还包括碳纳米管。在此，树脂可以占CNT涂覆溶液的10重量%至20重量%，并且碳纳米管可以占CNT涂覆溶液的0.1重量%至0.5重量%。

与此同时，ESD涂层的表面电阻可以是10⁶ohm/sq至10⁸ohm/sq。

本发明的技术效果

通过施加包括碳纳米管的ESD涂层，根据本发明构思的示例性实施方式的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片具有优良的抗静电效果。

此外，使用多孔毡以使真空吸盘的支持力可以极好地传递至工件，并且可以降低成本。

附图说明

根据以下与附图结合的详细说明，将会更清楚地理解本发明构思的示例性实施方式，在附图中：

图1是常规的支持工件的真空吸盘的截面示意图；

图2是根据本发明构思的示例性实施方式的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片的截面图；