[发明专利]用于吸附待处理物件的真空吸盘中的缓冲片有效

专利信息
申请号: 201280028646.X 申请日: 2012-06-11
公开(公告)号: CN103608912A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 李在德;崔日焕;金承烈 申请(专利权)人: 拓普纳诺斯株式会社
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01L21/683;C08J5/18;B23Q3/08;G02F1/13
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;张英
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 用于 吸附 处理 物件 真空 吸盘 中的 缓冲
【权利要求书】:

1.一种用于支持工件的真空吸盘的缓冲片,包括:

无纺布片;以及

在所述无纺布片上的包括碳纳米管的ESD涂层。

2.根据权利要求1所述的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片,其中所述无纺布片包括聚乙烯和聚对苯二甲酸乙二醇酯。

3.根据权利要求2所述的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片,其中所述无纺布片由被低密度聚乙烯包封的聚对苯二甲酸乙二醇酯的单元组形成。

4.根据权利要求1至3所述的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片,其中在所述无纺布片和所述ESD涂层之间进一步包括底层以提高所述ESD涂层的粘附力。

5.根据权利要求1至3所述的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片,其中所述ESD涂层通过施加CNT涂覆溶液形成,所述CNT涂覆溶液包括溶剂,与所述溶剂混合的苯氧基、丙烯基氨基甲酸酯分散体(AUD)、羧基改性的乙烯基共聚物、水性聚氨酯、聚酯、和聚乙烯醇缩丁醛中的至少一种树脂,以及碳纳米管,

其中所述树脂占所述CNT涂覆溶液的5wt%至30wt%,所述碳纳米管占所述CNT涂覆溶液的0.1wt%至0.5wt%。

6.根据权利要求1至3所述的用于支持工件的真空吸盘的缓冲片,其中所述ESD涂层的表面电阻是106ohm/sq至108ohm/sq。

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