[发明专利]用于抛光的结构构件有效
申请号: | 201280028637.0 | 申请日: | 2012-06-08 |
公开(公告)号: | CN103596729B | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 藤田淳;斋藤裕辅 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B24D3/20 | 分类号: | B24D3/20;B24D11/00;B24D3/34 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 丁业平,金小芳 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 抛光 结构 构件 | ||
1.一种用于抛光的结构构件,所述结构构件包括支撑构件、抛光材料和粘结所述支撑构件与所述抛光材料的粘合剂层;其中所述粘合剂层包括单体的聚合物,所述单体包括58重量%至85重量%的第一单体、2重量%至7重量%的第二单体、以及10重量%至40重量%的第三单体;其中所述第一单体为具有碳数为8至18个碳原子的烷基基团的(甲基)丙烯酸烷基酯,并提供玻璃化转变温度为0℃或更低的均聚物;所述第二单体为提供玻璃化转变温度为50℃或更高的均聚物的极性单体;并且所述第三单体为具有碳数为4至18个碳原子的烷基基团或碳数为7至18个碳原子的芳烷基基团的(甲基)丙烯酸烷基酯,并提供玻璃化转变温度为10℃或更高的均聚物。
2.根据权利要求1所述的用于抛光的结构构件,其中所述聚合物的玻璃化转变温度介于-25℃和10℃之间。
3.根据权利要求2所述的用于抛光的结构构件,其中所述聚合物的玻璃化转变温度介于-15℃和10℃之间。
4.根据权利要求1所述的用于抛光的结构构件,其中所述粘合剂层的加工液吸收小于5重量%,其中所述加工液吸收在粘合剂层之上测量,所述粘合剂层具有25mm×70mm×250微米厚度的尺寸,具有隔离衬垫,所述测量在移除所述隔离衬垫之一并将所述粘合剂层于23℃下在10%的SABRELUBE9016水溶液中浸泡10天后进行。
5.根据权利要求1所述的用于抛光的结构构件,其中所述抛光材料包含基体材料和抛光层。
6.根据权利要求5所述的用于抛光的结构构件,其中所述抛光层包含多个固体元件。
7.根据权利要求6所述的用于抛光的结构构件,其中所述多个固体元件包含多个磨粒和它们的粘结剂。
8.根据权利要求1、3或7中任一项所述的用于抛光的结构构件,其中所述粘合剂层的厚度介于50μm和500μm之间。
9.根据权利要求1所述的用于抛光的结构构件,所述结构构件还包含设置在所述支撑构件的另一表面侧上的可移除的粘合剂层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280028637.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:机器人有效负载运送装置
- 下一篇:放射治疗模拟机高精度数据采集装置