[发明专利]并列单基板处理系统

权利要求书

1.一种用于对排列在流体中的一个或更多个基板表面进行流体处理的系统，所述系统包括：

处理部分，所述处理部分带有框架并且具有多个处理元件，以在不接触所述基板表面的情况下处理所述基板表面；以及

基板保持件组件，所述基板保持件组件具有多个基板保持件并且构造成用于将一个或更多个基板作为单元在所述处理部分与另一位置之间传送，所述基板保持件中的每一个和所述基板保持件组件被构造成用于可移除地联接至处理部分框架，所述基板保持件组件中的每个基板保持件构造成保持所述基板中的至少一个；

所述处理部分框架具有对准特征，所述对准特征设置成使得在使所述基板保持件组件与所述处理部分框架联接时，所述对准特征与所述基板保持件组件的每个基板保持件交接，并且在每个基板保持件和所述处理部分框架相应地联接时相对于所述处理部分的预定特征以可重复对准的方式定位每个基板保持件。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述预定特征包括所述处理元件中的每一个，所述多个处理元件中的每个处理元件被定位在所述基板之间。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述对准特征包括使所述基板保持件组件中的基板保持件中的每一个相对于多个处理元件中的相应处理元件以可重复对准的方式对准的竖直引导件，其中所述基板保持件组件中的基板保持件中的每一个具有与所述竖直引导件中的每一个的匹配特征相配合的整体定位特征。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述保持件组件包括联接至框架的多个基板保持件，其中所述框架包括联接至传送装置的端部执行器，以及其中，所述传送装置构造成将所述基板保持件组件移动至所述处理模块以及将所述基板保持件组件从所述处理模块移走，以及其中，所述传送装置构造成将带有所述保持件框架的不同基板保持件组件移动至所述处理模块以及将带有所述保持件框架的不同基板保持件组件从所述处理模块移走。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述基板保持件组件中的所述基板保持件中的每一个能够相对于所述基板保持件组件中的其他基板保持件独立地移动和定位。

6.根据权利要求1所述的系统，其中，所述基板保持件组件中的所述基板保持件中的每一个能够独立于所述基板保持件组件中的其他基板保持件相对于所述处理部分的所述预定特征可重复地对准。

7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述基板保持件组件中的所述基板保持件中的每一个能够独立于多个处理元件中的其他处理元件相对于多个处理元件中的相应的处理元件可重复地对准。

8.一种用于对排列在流体中的一个或更多个基板表面进行流体处理的系统，所述系统包括：

具有模块的处理设备，所述模块带有框架和多个处理元件以在不接触所述基板表面的情况下流体处理所述基板表面；以及

基板保持件组件，所述基板保持件组件具有多个基板保持件并且构造成用于将基板作为单元批量传送，所述基板保持件中的每一个和所述基板保持件组件构造成用于可移除地联接至模块框架，所述基板保持件组件中的每个基板保持件构造成保持基板；

其中，所述模块框架具有插入引导件并且每个基板保持件具有从每个基板保持件悬下以及对应于所述插入引导件的匹配引导件，所述插入引导件和所述匹配引导件构造成使得在使所述基板保持件与所述模块框架联接时，所述插入引导件接纳每个基板保持件的相应的匹配引导件，所述相应的匹配引导件使所述基板保持件组件的每个基板保持件相对于多个处理元件中的相应的处理元件以可重复对准的方式对准。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述多个处理元件中的每个处理元件定位在所述基板之间。

10.根据权利要求8所述的系统，其中，所述插入引导件包括相对于所述多个处理元件中的相应的处理元件以可重复对准的方式对准所述基板保持件组件中的所述基板保持件中的每一个的竖直引导件。

11.根据权利要求8所述的系统，其中，所述保持件组件包括联接至框架的多个基板保持件，其中所述框架包括联接至传送装置的端部执行器，以及其中，所述传送装置构造成使所述基板保持件组件移动至所述处理设备以及使所述基板保持件组件从所述处理设备移走，以及其中，所述传送装置构造成使带有所述保持件框架的不同基板保持件组件移动至所述处理设备以及使带有所述保持件框架的不同基板保持件组件从所述处理设备移走。