[发明专利]成像光学单元

说明书

相关申请的交叉引用

通过引用将德国专利申请DE 10 2011 076 752.5的内容并入本文。

技术领域

本发明涉及一种用于将物场成像在像场中的成像光学单元。此外，本发明涉及一种包含该类型成像光学单元和用于照明物场的照明光学单元的光学系统、一种包含该类型光学系统和光源的投射曝光设备、一种借助于该类型投射曝光设备制造微结构或纳米结构组件的方法以及一种根据该类型方法制造的图案化组件。

背景技术

从US 2010/0231885 A1和US 7,414,781 B2可知引言中提及的类型的成像光学单元。

发明内容

本发明的目的是开发一种引言中提及的类型的成像光学单元，使得尤其是用于制造微结构或纳米结构组件的成像光学单元的分辨能力增大。

根据本发明，该目的利用包含权利要求1中明确说明的特征的成像光学单元来实现。

根据本发明，对物场和像场之间相互分离的部分成像光路的引导得到成像光学单元的总数值孔径，尤其是总像方数值孔径，其由分别引导部分成像光路的部分光学单元的数值孔径构成。这有效地增大了场方总数值孔径。所述总数值孔径可跨越（span）部分光学单元的数值孔径，使得总数值孔径可大于部分光学单元的数值孔径之和。成像光学单元的光瞳可由部分光学单元的在光瞳平面中不彼此重叠的部分光瞳构成。成像光学单元的光瞳遮拦可小于50%，小于40%，小于35%，以及可尤其为31%。光瞳遮拦的百分比数值被定义为光瞳内的由于光瞳遮拦而被遮蔽的面积相对于成像光学单元的光瞳的总面积的比率。

根据权利要求2的至少两个相互分离的部分光瞳首先使部分成像光路能够被单独地引导，此外，产生不同照明角度的照明。多于两个的相互分离的部分光瞳也是可能的，例如部分光学单元的三个或四个相互分离的部分光瞳引导部分成像光路。更大数量的彼此分离的部分光瞳也是可能的，例如五个、六个、七个、八个或者甚至九个部分光瞳。

根据权利要求3的部分光瞳的多重对称布置良好地适配于通常待成像的物体结构的对称性。多重对称性可为两重、三重、四重对称性或一般地为n重对称性。

根据权利要求4，构成成像光学单元的部分光学单元的多重对称布置具有与多重对称布置的部分光瞳的优点对应的优点。

根据权利要求5的光学组件的镜像对称性减少了用于成像光学单元的制造费用。

根据权利要求6的光学组件的半空间分离有助于设计成像光学单元。半空间分离平面可与镜像对称相符。因为半空间分离甚至可在部分光学单元关于彼此不镜像对称布置时进行，所以这不是强制的。

在根据权利要求7的布置的情况下，部分光学单元之一的至少一个光学组件布置在一个半空间中，所述部分光学单元的至少另一光学组件布置在另一半空间中。这样，部分光学单元的相互穿插设计(interpenetrating design)是可能的，这增加了设计自由度。

在根据权利要求8的布置的情况下，特别地，还可使用成像的反射式物体。倾斜照明是可能的。

根据权利要求9的部分光学单元的像方数值孔径已被证明是有利的。那么，像方总数值孔径例如可为0.5。

根据权利要求10的反射式实施例已被证明是有利的。例如，每个部分光学单元可使用六个反射镜。还可使用不同数量的反射镜，尤其是奇数数量的反射镜。

根据权利要求11的光学组件中的至少一个的一体式实施例增加了成像光学单元的稳定性。

根据权利要求12的光学系统、根据权利要求13的投射曝光设备、根据权利要求14的用于制造微结构或纳米结构组件的方法和根据权利要求15的图案化组件（例如，集成半导体电路、存储器芯片）的优点与上面参考根据本发明的成像光学单元所说明的优点对应。特别地，光源可为EUV光源，其导致投射曝光设备的高结构分辨率。

附图说明

参考附图，下面更详细地说明本发明的示例实施例，附图中：

图1示意性地示出用于EUV微光刻的投射曝光设备；

图2示出投射曝光设备的投射光学单元的实施例的侧视图（垂直于物平面和像平面的平面）；

图3示出透射式掩模的平面图，在使用根据图2的投射光学单元时，使用该透射式掩模代替图1示出的反射式掩模用于成像；

图4示出根据图2的投射光学单元的入瞳的平面图；

图5以类似于图2的示图示出代替根据图2的投射光学单元用于投射曝光设备中的投射光学单元的另一实施例；

图6以类似于图4的示图示出根据图5的投射光学单元的入瞳；