[发明专利]用于消毒表面的设备和方法的改进无效
| 申请号: | 201280023410.7 | 申请日: | 2012-05-14 |
| 公开(公告)号: | CN103687630A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
| 发明(设计)人: | A.K.F.G.孔特;J.G.切温斯 | 申请(专利权)人: | 拜奥奎尔英国有限公司 |
| 主分类号: | A61L2/18 | 分类号: | A61L2/18;B01J47/00;C02F1/42;A61M35/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 赵华伟;胡斌 |
| 地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 消毒 表面 设备 方法 改进 | ||
本发明涉及表面消毒设备和方法的改进,和尤其是涉及可以使用高浓度臭氧水来给伤口消毒的设备和方法。
在专利说明书WO-A-2004/103452中说明了一种系统,上述专利说明书详述了用于实施治疗的设备和方法,而上述系统包括三个主要成分:用于产生浓的臭氧水溶液的设备;用于将臭氧溶液喷到待治疗的肢体的表面上的设备;及用于支承待治疗的肢体和用于收集从经过治疗的肢体流下的供处置的溶液的设备。第一个设备包括连接到包含泵送装置和差压喷射器的流体再循环回路上的装流体的箱。氧气源经由臭氧发生器联接到差压喷射器上。臭氧气体在发生器内产生并经由差压喷射器输送到循环流体中以便产生高浓度臭氧水流体。
US-A-2004/0016706说明使用去离子设备和臭氧发生器来生产臭氧水的方法。系统存在包含文丘里喷射器的流体回路。所产生的流体打算待施加到伤口上。
这些类型设备使用饮用水,水的品质能根据它的来源和处理的方法而变动。水的品质和化学成分能影响能达到的臭氧水溶液的浓度。可氧化物质的存在破坏输送到流体中的臭氧直至上述物质完全被氧化为止。在臭氧化之前饮用自来水的纯化减少了臭氧量和产生规定的臭氧浓度所需的时间周期。
为纯化水存在许多方法如反渗透、蒸馏、过滤、电去离子和离子交换。设备优选地是便携式系统且照这样需要一种小的、可靠、快速、价格较低和使用方便的纯化水的方法。设备一般使用氧气源来供应臭氧发生器。该氧气源能是来自氧浓缩器、固定式供应管线或氧气瓶。为了使设备能是便携式的,小的固定体积,消耗性气溶胶是可优选的,正如滤毒罐(canister)在使用之后的减压用于处置目的那样。
许多别的解决方案在用于纯化水的现有技术中众所周知。例如,US-B-5024766说明包括使用去离子系统和臭氧化系统来产生纯净水的方法。US-B-4610790说明在每个流体生产过程开始之前与冲洗过程结合用于给水去离子的方法。US-A-2003/0099584说明使用去离子设备和臭氧发生器来生产臭氧水的方法。它说明在自来水通过臭氧发生器之前给自来水去离子的方法。US-B-6080313说明用水来净化新的去离子筒以待排放的方法。冲洗的目的是除去在运输或生产期间可以污染离子交换介质的粗大颗粒物。
一旦去离子完成,如果使用了滤毒罐,则它仍然充满水。在拆卸时,该流体能洒到地板上或操作者身上,而产生危险事故。为了克服这类问题,ZA-A-988786说明用于除去装离子交换树脂的容器中残留水的方法。
本发明涉及这种类型设备和尤其是WO-A-2004/103452中所述的设备的可用性中的改进。
按照本发明,提供了生产用于消毒表面的处理流体的方法,该方法包括以下步骤:
用来自流体供源的流体冲洗离子交换装置并将冲洗流体导引到废液箱;
通过使来自流体供源的流体穿过离子交换装置将上述流体去离子并把处理流体导引到储存装置;和
在去离子处理完成之后用气体净化离子交换装置以除去残留的处理流体。
方法优选地还包括净化连接到离子交换装置上的流体导管的步骤。
经过去离子的流体优选地用装备有氧气源的臭氧发生器臭氧化,而氧气源优选地用于从离子交换装置清除流体。
本发明还提供生产用于消毒表面的处理流体的设备,该设备包括:
离子交换装置;
用于将流体供应给离子交换装置以冲洗离子交换装置的装置;
用于导引冲洗流体到废液箱的装置;
用于导引流体以在离子交换装置中去离子并将处理流体传输到储存装置的装置;和
用于在去离子处理完成之后导引气体到离子交换装置中以除去残留的处理流体的装置。
气体优选地被导引以从连接到离子交换装置上的流体导管除去残留的处理流体。
氧气源可以连接成将氧气供应给臭氧发生器,上述臭氧发生器流体式连接到差压喷射器上。
优选地,提供装置以将来自氧气源的气体供应给离子交换装置来从离子交换装置清除流体。
设备优选地还包括去离子回路,上述去离子回路包括离子交换装置、储存装置、泵和阀装置,它们全都流体式连接以使流体能环绕去离子回路循环。
去离子回路可以用电导率传感器控制,该电导率传感器可以位于储存装置中。
设备优选地还包括臭氧化回路,上述臭氧化回路包括储存装置、连接到臭氧发生器上的差压装置、上述泵和阀装置,它们全都流体式连接以使经过去离子的流体能环绕臭氧化回路循环。
臭氧化回路可以由定时器装置控制。
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