[发明专利]用于消毒表面的设备和方法的改进

权利要求书

1. 生产用于消毒表面的处理流体的方法，包括以下步骤：

用来自流体供源的流体冲洗离子交换装置并导引冲洗流体到废液箱；

通过使来自流体供源的流体穿过离子交换装置将上述流体去离子并将处理流体导引到储存装置；和

在去离子处理完成之后用气体清洗离子交换装置以除去残留的处理流体。

2. 如权利要求1中所述的方法，还包括清洗连接到离子交换装置上的流体导管的步骤。

3. 如权利要求1或权利要求2中所述的方法，还包括用装备有氧气源的臭氧发生器使去离子的流体臭氧化的步骤。

4. 如权利要求3中所述的方法，其中利用氧气源从离子交换装置清除流体。

5. 用于生产消毒表面的处理流体的设备，包括：

离子交换装置；

用于将流体供应给离子交换装置以冲洗离子交换装置的装置；

用于导引冲洗流体到废液箱的装置；

用于导引流体以在离子交换装置中去离子并将处理流体传输到储存装置的装置；和

用于在去离子处理完成之后将气体导引到离子交换装置以除去残留的处理流体的装置。

6. 如权利要求5中所述的设备，其中导引气体以从连接到离子交换装置上的流体导管除去残留的处理流体。

7. 如权利要求5或权利要求6中所述的设备，还包括连接成供应氧气给臭氧发生器的氧气源，上述臭氧发生器流体式连接到差压喷射器上。

8. 如权利要求7中所述的设备，还包括将气体从氧气源供应给离子交换装置以从离子交换装置清除流体的装置。

9. 如权利要求5-8其中之一所述的设备，还包括去离子回路，上述去离子回路包括离子交换装置、储存装置、泵和阀装置，它们全都流体式连接以使流体能环绕去离子回路循环。

10. 如任何权利要求9中所述的设备，其中去离子回路利用电导率传感器控制。

11. 如权利要求10中所述的设备，其中电导率传感器位于储存装置中。

12. 如权利要求5-11其中之一所述的设备，还包括臭氧化回路，上述臭氧化回路包括储存装置、连接到臭氧发生器上的差压装置、上述泵和阀装置，它们全都流体式连接以便使去离子流体能环绕臭氧化回路循环。

13. 如权利要求12中所述的设备，其中臭氧化回路受定时器装置控制。

14. 如权利要求5-13其中之一所述的设备，其中离子交换装置是单次使用的可消耗性的筒。

15. 如权利要求14中所述的设备，其中离子交换装置用快速连接管接头连接到设备上。

16. 如权利要求5-15其中之一所述的设备，其中氧气源是单次使用的可消耗性的筒。