[发明专利]成膜装置

说明书

技术领域

本发明是关于一种成膜装置，例如，关于一种在单一室内具备材质不同的多个靶材电极，且利用旋转遮挡装置防止溅镀成膜多层膜的多元溅镀成膜装置中的污染。

背景技术

在多元溅镀成膜装置（例如，专利文献1）中，能够将认为需要的多层膜在1个成膜室内从基板上的最下层直到最上层为止不会中断地持续连续地进行溅镀成膜。

为了进行上述那样的多层膜的溅镀成膜，在专利文献1的成膜装置中，在一个室内，将多个材质不同的靶材配置于室顶面部，即配置于作为成膜对象的基板的上方空间中，且设置了为了选择用于溅镀成膜的靶材的遮挡装置。此溅镀装置，是具有分别独立地旋转的双层遮挡的构造，且在两张遮挡板的每一个上，在所需位置形成了能够从基板侧观看选择的靶材的所需数量的开口。

旋转遮挡装置，是不成膜的材质的靶材被遮蔽，欲溅镀成膜的材质的靶材通过开口而相对于基板出现的装置。旋转遮挡装置具备从基板观看大致圆形状的两片遮挡板，被构成此两片遮挡板能够独立地旋转。在选择用于溅镀成膜的靶材时，由旋转遮挡装置使各遮挡板旋转，使得用于成膜的材质的靶材通过开口而面临于基板。

专利文献1：日本特开2011-001597号公报

发明内容

在此，当以特定的顺序选择用于成膜的材质不同的多个靶材进行溅镀成膜时，若在靶材间发生污染，则存在被成膜的膜性能降低的危险。为了使膜性能良好的多层膜堆积于基板上，要求确实地防止发生污染的技术。

本发明的目的是鉴于上述课题，提供一种成膜装置，该成膜装置是在一个室内具备多个靶材，进行溅镀成膜多层膜，且由旋转遮挡装置进行靶材的选择的成膜装置，能够防止在靶材间发生污染。

为了解决课题的手段

本发明的成膜装置，其特征为，

具有多个靶材电极、基板保持架、第一遮挡构件、第一分离壁和第二分离壁；

该多个靶材电极具备安装靶材的安装面；

该基板保持架在与上述多个靶材电极相向的位置保持上述基板；

该第一遮挡构件可旋转地设置于上述多个靶材电极与上述基板保持架之间，具有在进行了旋转时与上述安装面相向的多个开口；

该第一分离壁设置于上述第一遮挡构件的上述靶材电极侧的面上；

该第二分离壁设置于上述第一遮挡构件与上述靶材电极之间，

上述第一分离壁以夹着上述第一遮挡构件的上述多个开口的每一个的方式设置，

上述第二分离壁设置成在上述第一遮挡构件绕旋转轴旋转了规定角度以上时，能够与上述第一分离壁抵接，

在成膜处理时，上述第一分离壁位于在与上述第二分离壁之间形成间隙的位置。

或，本发明的成膜装置，其特征为，

具有多个靶材电极、基板保持架、第一遮挡构件、遮蔽构件、第一分离壁和第二分离壁；

该多个靶材电极具备安装靶材的安装面；

该基板保持架在与上述多个靶材电极相向的位置保持上述基板；

该第一遮挡构件可旋转地设置于上述多个靶材电极与上述基板保持架之间，具有在进行了旋转时与上述安装面相向的多个开口；

该遮蔽构件设置于上述第一遮挡构件与上述多个靶材电极之间，具有开口，该开口与上述安装面相向，其数量仅与上述多个靶材电极的数量相等；

该第一分离壁设置于上述第一遮挡构件的上述基板保持架侧的面上；

该第二分离壁设置于上述遮蔽构件的第一遮挡构件侧的面上，

上述第一分离壁以夹着上述第一遮挡构件的上述多个开口的每一个的方式设置，

上述第二分离壁设置成在上述第一遮挡构件绕旋转轴旋转了规定角度以上时，能够与上述第一分离壁抵接，

在成膜处理时，上述第一分离壁位于在与上述第二分离壁之间具有间隙的位置。

发明的效果

能够提供一种成膜装置，该成膜装置在一个室内具备多个靶材，进行溅镀成膜多层膜，且由旋转遮挡装置进行靶材的选择，能够在靶材间防止污染。

本发明的其他的特征与优点，将由参照附图的以下的说明明确。另外，在附图中，对相同或同样的构成，附加相同的参照符号。

附图说明

附图包括于说明书，构成其一部分，表示本发明的实施方式，与其记述一起用于说明本发明的原理。

图1是表示用于本发明的磁阻器件的制造方法的成膜装置的代表性的实施方式的构造的俯视图。

图2是概略地表示本发明的第一实施方式的成膜装置的一个成膜室的构造的俯视图。