[发明专利]基板涂布方法、基板涂布装置以及使用了该方法的有机电致发光器件的制造方法无效
申请号: | 201280018600.X | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN103492088A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 吉田和司;葛冈义和;川口敬史;五十川良则 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社;龙云股份有限公司 |
主分类号: | B05D1/26 | 分类号: | B05D1/26;B05C5/02;B05C11/10;B05D3/00;H01L51/50;H05B33/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板涂布 方法 装置 以及 使用 有机 电致发光 器件 制造 | ||
1.一种基板涂布方法,其特征在于,其是使用狭缝式喷嘴在基板上涂布涂布液的基板涂布方法,其包括下述工序:
第一工序,其是在间歇性地搬送的基板上,由所述狭缝式喷嘴涂布涂布液来形成涂布膜;
第二工序,其是在所述第一工序之后,在接下来的基板上不涂布所述涂布液而进行待机;和
第三工序,其是在所述第一工序之前,向在所述狭缝式喷嘴的下方位置与所述狭缝式喷嘴的喷出口隔开间隔地配置的辊部喷出所述涂布液,
其中,在所述第二工序中,由所述狭缝式喷嘴向所述辊部喷出所述涂布液。
2.根据权利要求1所述的基板涂布方法,其特征在于,在所述第二工序中喷出的所述涂布液的量少于在所述第三工序中由所述狭缝式喷嘴喷出的所述涂布液的量。
3.根据权利要求1或2所述的基板涂布方法,其特征在于,所述涂布液储存于具有内侧收容部和外侧收容部的双重结构的涂布液储存部中的内侧收容部,通过向所述外侧收容部与所述内侧收容部之间注入流体来对所述内侧收容部加压,从而向所述涂布液储存部的外侧送液,在直至由所述狭缝式喷嘴喷出为止的送液的过程中不与外部气体接触。
4.根据权利要求1~3中任一项所述基板涂布方法,其特征在于,其包括第四工序,所述第四工序是在所述第二工序与所述第三工序之间,对附着在所述狭缝式喷嘴的外表面上的所述涂布液进行擦拭。
5.一种有机电致发光器件的制造方法,其特征在于,利用权利要求1~4中任一项所述的基板涂布方法来形成构成有机电致发光器件的膜。
6.一种有机电致发光器件的制造方法,其特征在于,在利用权利要求1~5中任一项所述的基板涂布方法形成的涂布膜上,进一步形成构成有机电致发光器件的膜。
7.一种基板涂布装置,其特征在于,其具备:
储存涂布液的涂布液储存部;
使用狭缝式喷嘴来涂布所述涂布液的涂布部;
在所述涂布液不与外部气体接触的情况下从所述涂布液储存部向所述狭缝式喷嘴送液的涂布液送液部;
在所述狭缝式喷嘴的下方以滑动自如的方式配置辊部的辊受液部;和
在所述狭缝式喷嘴的下方间歇性地搬送基板的基板搬送部,
其中,所述涂布部在不向所述基板涂布所述涂布液的待机时间中,向所述辊部喷出所述涂布液。
8.根据权利要求7所述的基板涂布装置,其特征在于,所述涂布液储存部形成具有内侧收容部和外侧收容部的双重结构,并且所述涂布液储存于内侧收容部,
通过向所述外侧收容部与所述内侧收容部之间注入流体来对所述内侧收容部加压,从而向所述涂布液储存部的外侧送液。
9.根据权利要求7或8所述的基板涂布装置,其特征在于,其具备对附着在所述狭缝式喷嘴的外表面上的涂布液进行擦拭的擦拭部。
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