[发明专利]反射式显示装置

说明书

技术领域

像素化的(pixellated)反射式显示装置通过独立地控制从在显示介质后面的反射表面通过显示介质的各个像素区反射回的入射光的量而操作。

背景技术

为了即使在入射光表现出高度依赖方向的强度时也以相对大范围的观看角度实现良好的显示性能的目的，一些反射式显示装置包括在平坦的反射表面与显示介质之间的散射器(diffuser)。

已经认识到以其它方式实现同样的这种良好的显示性能的需求。本发明的一个目的是满足这种需求。

发明内容

由此提供了一种制作用于反射式显示装置的控制部件的方法，该方法包括：形成电子切换装置的阵列；在所述电子切换装置的阵列之上形成限定受控表面形貌(controlled surface topography)的绝缘体区域；以及通过保形(conformal)沉积技术在绝缘体区域的图案化表面上形成反射的像素导体的基本上平面的阵列，每个像素导体是可经由电子切换装置的阵列中的相应的一个电子切换装置独立控制的，其中每个像素导体对于相对于像素导体的阵列的平面的给定入射角在相对于像素导体的阵列的平面的反射角的范围内表现出镜面反射。

根据一个实施例，受控表面形貌包括凸起特征件(feature)的阵列和／或凹陷特征件的阵列。

根据一个实施例，受控表面形貌使得所述受控表面形貌上没有点具有表现出相对于像素导体的阵列的平面大于约10度的角度的切平面(tangent plane)。

根据一个实施例，受控表面形貌表现出受控的不规则度。

根据一个实施例，受控表面形貌限定在绝缘体区域的表面之上以有序的方式重复的图案。

根据一个实施例，所述重复的图案表现出不规则度。

根据一个实施例，受控表面形貌限定以基本上不小于像素导体的阵列中的一个的尺寸的节距(pitch)重复的不规则的单元图案。

根据一个实施例，受控表面形貌限定以大于可见光的波长的节距重复的不规则的单元图案。

根据一个实施例，形成所述绝缘体区域包括在电子切换装置的阵列之上沉积绝缘材料并且随后通过激光烧蚀使沉积的绝缘材料的表面图案化以便实现所述受控表面形貌。

由此还提供了一种用于反射式显示装置的控制部件，所述控制部件包括：电子切换装置的阵列；绝缘体区域，形成在所述电子切换装置的阵列之上并且限定受控表面形貌；以及反射的像素导体的平面的阵列，形成在绝缘体区域的图案化表面上，并且每个像素导体是可经由电子切换装置的阵列中的相应的一个电子切换装置独立控制的；其中每个像素导体具有与绝缘体区域的表面基本上一致的上表面，并且对于相对于像素导体的阵列的平面的给定入射角在相对于像素导体的阵列的平面的反射角的范围内表现出镜面反射。

根据一个实施例，受控表面形貌包括凸起特征件的阵列和／或凹陷特征件的阵列。

根据一个实施例，受控表面形貌使得所述受控表面形貌上没有点具有表现出相对于像素导体的阵列的平面大于约10度的角度的切平面。

根据一个实施例，受控表面形貌表现出受控的不规则度。

根据一个实施例，受控表面形貌限定在绝缘体区域的表面之上以有序的方式重复的图案。

根据一个实施例，所述重复的图案表现出不规则度。

根据一个实施例，受控表面形貌限定以基本上不小于像素导体的阵列中的一个的尺寸的节距重复的不规则的单元图案。

根据一个实施例，受控表面形貌限定以大于可见光的波长的节距重复的不规则的单元图案。

附图说明

在下面通过仅仅示例的方式参考附图详细描述了本发明的实施例，在附图中：

图1示出根据本发明实施例的并入控制部件的示例的反射式显示装置；

图2示出用于制作图1中示出的控制部件的技术的示例；以及

图3示出供图2中示出的过程之用的激光掩模的示例。

具体实施方式

在下面描述本发明的实施例，以用作通过独立可控的顶部栅极薄膜晶体管(TFT)的阵列控制的像素化的反射式显示装置的示例。然而，相同的技术也用在其它反射式显示装置中。