[发明专利]反射式显示装置

权利要求书

1.一种制作用于反射式显示装置的控制部件的方法，所述方法包括如下步骤：

在支撑电子切换装置的阵列的衬底上沉积绝缘材料；

在所述衬底上进行沉积之后激光烧蚀所述绝缘材料的表面，以在该表面中限定受控表面形貌，该受控表面形貌包括凸起特征件的阵列和/或凹陷特征件的阵列；以及

通过保形沉积技术在绝缘材料的图案化表面上形成反射的像素导体的平面阵列，每个像素导体是可经由电子切换装置的阵列中的相应的一个电子切换装置独立控制的，其中每个像素导体对于相对于像素导体的阵列的平面的给定入射角在相对于像素导体的阵列的平面的反射角的范围内表现出镜面反射。

2.一种制作用于反射式显示装置的控制部件的方法，所述方法包括：在支撑电子切换装置的阵列的衬底上形成限定受控表面形貌的绝缘体区域，该受控表面形貌包括凸起特征件的阵列和/或凹陷特征件的阵列；以及

通过保形沉积技术在所述绝缘体区域上形成反射的像素导体的平面阵列，其中每个像素导体是能经由所述电子切换装置的阵列中的相应的一个电子切换装置独立控制的并且对于相对于像素导体的阵列的平面的给定入射角在相对于像素导体的阵列的平面的反射角的范围内表现出镜面反射；

其中，形成所述绝缘体区域包括在所述衬底上沉积绝缘材料和通过激光烧蚀该绝缘材料的表面以实现所述受控表面形貌，其中，所述激光烧蚀包括经由一连串的掩模图案将激光聚焦在所述绝缘材料的表面的单元区域中，所述掩模图案包括不同尺寸的暗场圆。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中受控表面形貌使得所述受控表面形貌上没有点具有表现出相对于像素导体的阵列的平面大于10度的角度的切平面。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中受控表面形貌表现出受控的不规则度。

5.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中受控表面形貌限定在绝缘体区域的表面之上以有序的方式重复的图案。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述重复的图案表现出不规则度。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中受控表面形貌限定以不小于像素导体的阵列中的一个的尺寸的节距重复的不规则的单元图案。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中受控表面形貌限定以大于可见光的波长的节距重复的不规则的单元图案。