[发明专利]具有连续流过式口腔设备的唾液管理系统

权利要求书

1.一种系统，包括：

口腔设备，其可定位在患者的口腔中，并且具有真空集气室，该集气室具有空气入口、空气出口以及一个或多个真空端口；

真空控制系统，具有真空泵和空气源；

第一管，用于将所述空气入口连接至所述空气源；以及

第二管，用于连接所述真空泵以从所述空气出口抽取空气；

其中由所述真空泵所引起的空气循环抑制所述口腔设备和所述管中的唾液累积。

2.如权利要求1中所述的系统，还包括装设在所述空气循环中的唾液排除机构。

3.如权利要求1中所述的系统，其中所述口腔设备包含适于固持在所述患者的上牙与下牙之间的基座，所述基座具有前端、后端、从所述前端延伸至所述后端的一对咬合结构、以及在所述支腿之间跨所述后端延伸的横梁，其中所述真空端口装设在所述横梁中。

4.如权利要求1中所述的系统，其中所述集气室连续地延伸通过一个咬合结构，跨过所述横梁，并通过另一咬合结构，以便从所述入口到所述出口保持受控的气流。

5.如权利要求1中所述的系统，其中所述集气室从所述入口延伸至旁通出口，并且在所述旁通出口与所述真空端口之间装设屏障。

6.如权利要求1中所述的系统，其中所述集气室在一个咬合结构中被分隔为分别与所述入口和所述出口相连接的入口腔和出口腔。

7.如权利要求3中所述的系统，其中所述横梁与舌头的接合区域接合并压低与舌头的接合区域，并且允许所述横梁前方的舌头区域相对于舌头的后部区域有所抬升。

8.如权利要求1中所述的系统，其中所述真空控制系统还至少包含第一压力或流量传感器，该传感器装设在所述口腔设备的入口侧或出口侧。

9.如权利要求8中所述的系统，其中所述真空控制系统还至少包含第二压力或流量传感器，该传感器装设在所述口腔设备的入口侧或出口侧。

10.如权利要求9中所述的系统，还包括控制器，该控制器接收所述第一传感器和/或所述第二传感器的输出，并控制所述真空泵的操作以便将通过所述集气室的压力或流量保持在目标范围内。

11.如权利要求9中所述的系统，其中所述控制器还将所述第一传感器的输出与所述第二传感器的输出进行比较，以便检查所述系统是否正常操作。

12.如权利要求1中所述的系统，其中至少所述真空泵和所述唾液收集器位于公共外壳之中。

13.如权利要求12中所述的系统，其中至少所述真空泵、所述空气源以及所述唾液收集器位于公共外壳之中。

14.如权利要求1中所述的系统，其中所述第一管和所述第二管联接在一起，并且提供所述公共外壳与所述口腔设备之间唯一的连接。

15.一种口腔设备，包括：

基座，其适于固持在患者的上牙与下牙之间，所述基座具有前端、后端以及跨所述后端延伸的横梁；

其中集气室在所述基座内从所述前端上的空气入口延伸至所述横梁并返回到所述前端上的空气出口，

其中所述空气入口部分和所述空气出口由所述集气室流体地连接，以便进入所述入口的空气在离开所述出口之前通过所述横梁；并且

其中至少一个真空端口形成于所述横梁的壁中。

16.如权利要求15中所述的设备，其中所述基座包括左咬合结构和右咬合结构，并且所述横梁装设在所述咬合结构之间。

17.如权利要求15中所述的设备，其中所述集气室连续地延伸通过一个咬合结构，跨过所述横梁，并通过另一咬合结构，以便从所述入口到所述出口保持受控的气流。

18.如权利要求15中所述的设备，其中所述集气室从所述入口延伸至旁通出口，并且在所述旁通出口与所述真空端口之间装设屏障。

19.如权利要求15中所述的设备，其中所述集气室在一个咬合结构中被分隔为分别与所述入口和所述出口相连接的入口腔和出口腔。

20.如权利要求15中所述的设备，其中所述横梁在基座被固持在患者的牙齿之间时隔开在硬腭之下，其中无结构的净空区域被限定于所述横梁与硬腭之间并延伸至患者的软腭。