[发明专利]阻隔性蒸镀膜

权利要求书

1.一种阻隔性蒸镀膜，其中，在基体材料的至少一面具有至少一层下述蒸镀层(a)，

蒸镀层(a)：是由金属氧化物形成的厚度10～500nm的蒸镀层，在通过X射线光电子能谱(ESCA)沿深度方向对该蒸镀层进行分析时，氧(O)与金属的元素比[氧(O)/金属]的平均值为1.20以上且1.90以下，并且[氧(O)/金属]的最大值和最小值之差为0.35以下。

2.根据权利要求1所述的阻隔性蒸镀膜，其中，金属为硅(Si)。

3.根据权利要求1或2所述的阻隔性蒸镀膜，其中，蒸镀层(a)是通过物理气相蒸镀法形成的蒸镀层。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的阻隔性蒸镀膜，其具有包含蒸镀层(a)的多层蒸镀层。

5.根据权利要求4所述的阻隔性蒸镀膜，其中，多层蒸镀层包含通过物理气相蒸镀法形成的蒸镀层及通过化学气相蒸镀法形成的蒸镀层。

6.根据权利要求5所述的阻隔性蒸镀膜，其中，通过物理气相蒸镀法形成的蒸镀层是由金属氧化物形成的厚度10～500nm的蒸镀层，在通过X射线光电子能谱(ESCA)沿深度方向对该蒸镀层进行分析时，氧(O)与金属的元素比[氧(O)/金属]的平均值为1.20以上且1.90以下，并且[氧(O)/金属]的最大值和最小值之差为0.35以下。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的阻隔性蒸镀膜，其中，对于进一步从该膜宽度方向两端去除阻隔性蒸镀膜宽度的3%后的部分，在将该部分的宽度等间隔地进行10等分的9个点与上述同样地通过X射线光电子能谱(ESCA)沿深度方向对蒸镀层(a)进行分析时，在各点上，[氧(O)/金属]的平均值为1.20以上且1.90以下，并且[氧(O)/金属]的最大值和最小值之差为0.35以下。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的阻隔性蒸镀膜，其中，基体材料为塑料膜。

9.权利要求1～8中任一项所述的阻隔性蒸镀膜的制造方法，该方法包括：使用至少具有膜开卷/卷取槽和蒸镀槽的辊对辊方式的蒸镀装置，以开卷/卷取槽内的压力和蒸镀槽内的压力之比[(开卷/卷取槽内的压力)/(蒸镀槽内的压力)]为50以下形成蒸镀层(a)。

10.根据权利要求9所述的阻隔性蒸镀膜的制造方法，其中，[(开卷/卷取槽内的压力)/(蒸镀槽内的压力)]为5以下。

11.根据权利要求9或10所述的阻隔性蒸镀膜的制造方法，其中，蒸镀槽内的压力为2.5×10^-2Pa以下。

12.根据权利要求9～11中任一项所述的阻隔性蒸镀膜的制造方法，其中，蒸镀装置在膜开卷/卷取槽和蒸镀槽之间还具有排气槽。

13.根据权利要求9～12中任一项所述的阻隔性蒸镀膜的制造方法，其中，在形成蒸镀层(a)时，向蒸镀槽中导入氧。