[发明专利]静电夹具设备和光刻设备有效
| 申请号: | 201280011710.3 | 申请日: | 2012-01-18 |
| 公开(公告)号: | CN103415811A | 公开(公告)日: | 2013-11-27 |
| 发明(设计)人: | V·班尼恩;E·鲁普斯特拉;T·凯蒂;J·阿克曼斯;L·斯卡克卡巴拉兹;C·L·瓦伦汀 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 静电 夹具 设备 光刻 | ||
1.一种静电夹具设备,其构造用以支撑光刻设备的图案形成装置,所述静电夹具设备包括:
支撑结构,所述图案形成装置被抵靠所述支撑结构支撑;
夹持电极,用于在支撑结构和图案形成装置之间提供夹持力;和
电容传感器阵列,其能够操作用以测量所述图案形成装置的形状。
2.如权利要求1所述的静电夹具设备,其中所述电容传感器阵列是具有与所述图案形成装置的表面积相近的面积的二维阵列。
3.如权利要求1或2所述的静电夹具设备,其中所述电容传感器阵列被包括在所述支撑结构内。
4.如权利要求3所述的静电夹具设备,其中所述支撑结构设置在具有多个突起的支撑表面上,所述图案形成装置被抵靠所述多个突起夹持,所述电容传感器阵列的分离的传感器设置在每个突起的附近。
5.如权利要求4所述的静电夹具设备,其中所述传感器被应用至所述支撑表面使得每个传感器基本上被设置在突起的周围。
6.如权利要求3至5中任一项所述的静电夹具设备,其中所述电容传感器阵列与所述夹持电极是一体的。
7.如权利要求6所述的静电夹具设备,其中所述一体的夹持电极/电容传感器中的每一个设置有用于提供所述夹持力的DC电源和用于如所述电容传感器阵列的操作的AC电源。
8.如权利要求1或2所述的静电夹具设备,其中所述图案形成装置具有第一侧和第二侧,所述第一侧能够操作以被抵靠所述支撑结构夹持;所述电容传感器阵列邻近所述第二侧设置并且能够操作以测量所述第二侧上的变形。
9.如权利要求8所述的静电夹具设备,其中所述电容传感器阵列包含在掩模版处理装置中。
10.如权利要求8或9所述的静电夹具设备,其中所述静电夹具设备包括用于相对于所述图案形成装置沿所述图案形成装置的图案形成表面的平面的法线方向移动所述电容传感器阵列的致动器。
11.如权利要求8、9或10所述的静电夹具设备,其中所述静电夹具设备包括闭环控制系统,所述闭环控制系统能够操作以测量图案形成装置相对于电容传感器阵列的相对位置。
12.如权利要求11所述的静电夹具设备,其中所述静电夹具设备能够操作以使用电容传感器阵列用于图案形成装置相对于电容传感器阵列的相对位置的所述测量。
13.如权利要求8至12中任一项所述的静电夹具设备,其中所述静电夹具设备能够操作使得电容传感器阵列执行绝对测量,在所述绝对测量中,电容传感器阵列相对于预定参照物测量掩模版的形状。
14.如权利要求8至12中任一项所述的静电夹具设备,其中所述静电夹具设备能够操作使得电容传感器阵列执行相对测量,通过在所述夹持电极被操作以施加第一夹持力时执行的第一测量以及在所述夹持电极被操作以施加与所述第一夹持力不同的第二夹持力时执行的第二测量实现每一相对测量。
15.如权利要求14所述的静电夹具设备,其中所述第二夹持力比所述第一夹持力高。
16.如权利要求15所述的静电夹具设备,其中所述静电夹具设备能够操作使得电容传感器阵列执行差分测量,每一差分测量用所述电容传感器阵列中的两个传感器来执行。
17.如权利要求8至16中任一项所述的静电夹具设备,其中所述支撑结构设置在具有多个突起的支撑表面上,所述图案形成装置被抵靠所述突起夹持,并且分离的传感器设置在每个突起附近。
18.如权利要求1或2所述的静电夹具设备,其中电容传感器阵列包含在形成所述光刻设备的一部分的图案形成装置交换设备内,所述图案形成装置交换设备用于移动和交换图案形成装置。
19.如权利要求18所述的静电夹具设备,其中电容传感器阵列包括多个平行的1维电容传感器阵列。
20.如权利要求19所述的静电夹具设备,其中设置有2个至6个之间的所述1维电容传感器阵列。
21.如权利要求18至20中任一项所述的静电夹具设备,其中所述图案形成装置交换设备能够操作以在正在被测量的图案形成装置的表面上方扫描所述电容传感器阵列。
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