[发明专利]用于光电子结构的载体和具有这种载体的光电子半导体芯片有效

专利信息
申请号: 201280011601.1 申请日: 2012-01-23
公开(公告)号: CN103403891A 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 西格弗里德·赫尔曼;斯特凡·伊莱克 申请(专利权)人: 欧司朗光电半导体有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/62;H01L33/38;H05K1/18;H05K3/34;H05K1/11
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张春水;田军锋
地址: 德国雷*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 光电子 结构 载体 具有 这种 半导体 芯片
【权利要求书】:

1.一种用于光电子结构(2)的载体(1),所述载体具有

-基体(11),尤其是电绝缘的基体,

-在所述基体(11)的下侧(11b)上的至少一个n型侧的连接部位(13),

-在所述基体(11)的下侧(11b)上的至少一个p型侧的连接部位(12),

-在所述基体(11)的与下侧(11b)对置的上侧(11a)上的结构化的导电层(14),以及

-在结构化的所述导电层(14)的背离所述基体(11)的一侧上的结构化的且导电的载体侧的连接剂层(15),其中

-结构化的所述导电层(14)在第一区域(14a)中导电地与所述n型侧的连接部位(13)连接,

-结构化的所述导电层(14)在第二区域(14b)中导电地与所述p型侧的连接部位(12)连接,

-所述导电层(14)的所述第一区域(14a)和所述第二区域(14b)彼此电绝缘,

-载体侧的所述连接剂层(15)部分地与所述导电层(14)直接接触,以及

-在所述导电层(14)和载体侧的所述连接剂层(15)之间部分地设置有电绝缘的钝化材料(16)。

2.根据上一项权利要求所述的载体,

其中所述钝化材料(16)部分地设置在所述导电层(14)和载体侧的所述连接剂层(15)之间,其中所述钝化材料(16)与所述导电层(14)和所述连接剂层(15)直接接触,其中存在载体侧的所述连接剂层(15)的下述至少一个区域:在所述至少一个区域中,载体侧的所述连接剂层(15)仅机械地与所述导电层(14)连接,其中机械连接由电绝缘的所述钝化材料(16)实现并且在所述至少一个区域中在载体侧的所述连接剂层(15)和所述导电层(14)之间不存在导电的接触部。

3.根据上一项权利要求所述的载体,

其中所述钝化材料(16)仅在所述第一区域(14a)中与所述导电层(14)直接接触。

4.根据上述权利要求之一所述的载体,

其中所述连接部位(12,13)分别借助于至少一个通孔(17)与所述导电层(14)导电地连接,其中所述通孔(17)穿过所述基体(11)从所述基体(11)的下侧(11b)延伸至上侧(11a)。

5.根据上述权利要求之一所述的载体,

其中所述基体(11)由硅和/或陶瓷材料构成。

6.一种光电子半导体芯片,所述光电子半导体芯片具有

-根据上述权利要求之一所述的载体(1)以及

-光电子结构(2),所述光电子结构(2)借助于载体侧的所述连接剂层导电地且机械地与所述载体连接。

7.根据上一项权利要求所述的光电子半导体芯片,

其中所述光电子结构(2)包括下述部件:

-具有有源区域(21c)的半导体层序列(21),

-镜层(22),所述镜层(22)设为用于反射在所述有源区域(21c)中产生的电磁辐射并且与所述半导体层序列(21)的p型侧(21a)导电地连接,以及

-至少一个结构侧的通孔(27),所述通孔(27)导电地接触所述半导体层序列的n型侧(21b)并且从所述p型侧(21a)穿过所述有源区域(21c)延伸至所述n型侧(21b)。

8.根据上述权利要求之一所述的光电子半导体芯片,所述光电子半导体芯片具有

-结构化且导电的结构侧的连接剂层(25),所述连接剂层(25)与载体侧的所述连接剂层(15)直接接触,其中两个所述连接剂层(15,25)机械固定地彼此连接。

9.根据上一项权利要求所述的光电子半导体芯片,

其中

-结构侧的所述连接剂层(25)具有至少一个p区域(25a),所述p区域(25a)导电地与所述p型侧的连接部位(12)连接,以及

-结构侧的所述连接剂层(25)具有至少一个n区域(25b),所述n区域(25b)导电地与所述n型侧的连接部位(13)连接,其中

-结构侧的所述连接剂层(25)的所述n区域(25b)和所述镜层(22)不相互重叠。

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