[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，具有：

脉冲地发出激光的光源；

形成了应曝光的图案的掩模；

使正立等倍像在基板上成像的多个微透镜在行方向的第一方向排列并且在列方向的第二方向以规定的行间距设置多行的微透镜阵列；

将来自所述光源的激光通过所述掩模导入所述微透镜阵列的光学系统；

使所述基板在所述第二方向移动的驱动装置；

将所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系仅以所述微透镜的所述行间距在所述第二方向依次切换的切换装置；以及

将基于所述驱动装置的所述基板的移动、基于所述切换装置的所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系的切换、以及所述激光的照射定时进行控制的控制装置。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述微透镜阵列是以1次所述激光的照射，将对应于微透镜的数量的多个矩形的区域进行曝光的微透镜阵列，

在棋盘格状的位置，在第一方向相互间设置间隔并在第一方向以规定的列间距配置所述矩形的区域，

在所述第一方向，隔开1个或多个位置，以规定的列间距将第一行的所述区域的配置位置进行配置，

在与所述第一行的区域的所述间隔的位置对应的位置，在所述第一方向，设置所述列间距配置相对所述第一行在第二方向邻接的第二行的所述区域，

进一步，在有共用于所述第一行和所述第二行的间隔的位置的情况下在与该位置对应的位置、在没有所述共用的间隔的位置的情况学下在与所述第一行的所述区域对应的位置，在所述第一方向，设置所述列间距并配置相对所述第二行在第二方向邻接的第三行的所述区域，

以下同样地相对各行，直到没有共用于前段的全部的行的区域之间的间隔为止使所述第一方向的配置位置错开来配置后段的行的区域，在没有共用于全部的行的区域之间的间隔时，就第一方向而言在与第一行相同的配置位置配置所述区域并再一次依次配置多行的所述区域。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述微透镜阵列具有：所述多个微透镜在行方向的第一方向排列并在列方向的第二方向以规定的行间距多行设置的4枚微透镜阵列单体；由遮光性的材料构成并且以多个矩形的透光部与所述微透镜的位置对应的方式设置的遮光构件，在2枚微透镜阵列单体与2枚微透镜阵列单体之间的倒立等倍像的成像位置配置所述遮光构件，并以相同光轴配置各微透镜和透光部。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制装置反复进行在将所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系维持原样不变，使所述基板在第二方向的正方向移动并将所述基板发曝光对象区域整体曝光之后，通过所述切换装置使所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系在第二方向仅错开所述行间距而切换之后，使所述基板在第二方向的反方向移动并将所述基板的曝光对象区域整体曝光，进一步，通过所述切换装置使所述微透镜阵列与所述掩模的相对位置关系在第二方向仅错开所述行间距而切换之后，使所述基板在第二方向的正方向移动并将所述基板的曝光对象区域整体曝光这样的工序，在所述基板的曝光对象区域整体转印所述掩模的曝光图案。