[发明专利]低折射率膜形成用组合物、低折射率膜的形成方法以及通过该形成方法而形成的低折射率膜以及抗反射膜

说明书

技术领域

本发明涉及低折射率膜形成用组合物，更具体涉及：用于赋予移动电话、个人电脑、电视、触摸面板等的显示装置、摄像机、复印机、传真机、激光打印机等中使用的光学部件等抗反射功能的低折射率膜形成用组合物。另外，本发明涉及使用了该组合物的低折射率膜的形成方法、通过该方法而形成的低折射率膜以及抗反射膜。

背景技术

在液晶显示装置、EL显示器等显示装置的显示面，为了抑制外部光的反射、映入等，通常形成有抗反射膜。另外，在摄像机、复印机、传真机、激光打印机、眼镜等中使用的光学部件也根据需要而形成抗反射膜。

由于抗反射中利用光学的干涉作用，因而如同可由菲涅耳公式导出的那样，如果所形成的膜的折射率足够低于基材的折射率，则在理论上即使单层涂布也可实现低反射化。然而，实际上可通过单层涂布而实现低反射化的低折射率材料的选择范围狭小，所以一般由折射率不同的多层膜(高折射率层以及低折射率层)形成抗反射膜。

作为由多层膜(高折射率层以及低折射率层)形成的抗反射膜的低折射率层，已知有各种的材料，例如作为使用聚硅氮烷的例子，已知有如下方法：由全氟烷基等含氟烷基取代聚硅氮烷中的氢原子的一部分而得到聚硅氮烷，通过使用该聚硅氮烷使得其折射率(1.40～1.46)低于未取代的聚硅氮烷经固化得到的硅石的折射率(1.46)(参照专利文献1)；将镁的氟化物或者氧化物的微粒分散于全氢聚硅氮烷溶液的方法(参照专利文献2)等。

但是，在上述1.40～1.46程度折射率的场合，为了用作抗反射膜而需要预先在下层形成高折射率层，因而存在有抗反射膜的制造工序变得复杂的缺点。另外，利用含有镁的氟化物等低折射率微粒而获得低折射率膜的方法中，需要将大量的微粒均匀地分散于膜中且维持稳定性，另外也存在有因微粒的分散而失去膜的透明性这样的问题。进一步，近年正在益发寻求使用考虑了环境的原材料，使用含有氟化合物的聚硅氮烷对于环境的影响也令人担忧。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第4374687号说明书

专利文献2：日本特开2006-259096号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明基于上述那样的情形而完成，其目的在于提供一种低折射率膜形成用组合物，该低折射率膜形成用组合物即使是单层也具有优异的抗反射功能，另外，通过预先在下层形成高折射率层而更加提高其抗反射效果，且不对环境造成影响。

另外，本发明的另一目的在于提供使用了上述的低折射率膜形成用组合物的低折射率膜的形成方法、通过该方法而形成的低折射率膜以及抗反射膜。

用于解决问题的方案

本发明人等进行了深入研究，结果发现如下事实，基于此事实而完成了本发明：将以特定的比率包含无机聚硅氮烷；以及从含硅氮烷的有机聚合物、含硅氧硅氮烷(シロキサザン)的有机聚合物以及含脲硅氮烷(ウレアシラザン)的有机聚合物中选出的至少一种有机聚合物的溶液涂布于基材，从而获得低折射率的膜，该低折射率的膜大幅地低于将无机聚硅氮烷、有机聚合物分别转化时的化合物特有的折射率，该膜的折射率非常小，即使是单层也可用作优异的抗反射膜。

即，本发明涉及以下所示的低折射率膜形成用组合物、低折射率膜的形成方法、通过该方法而形成出的低折射率膜以及抗反射膜。

(1)一种低折射率膜形成用组合物，其特征在于，其包含：(A)无机聚硅氮烷；以及(B)从含硅氮烷的有机聚合物、含硅氧硅氮烷的有机聚合物、含脲硅氮烷的有机聚合物中选出的至少一种有机聚合物，(A):(B)的重量比为40:60～17:83。

(2)根据上述(1)所述的低折射率膜形成用组合物，其特征在于，前述有机聚合物具有从烷基、烯基、环烷基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基氨基、烷氧基以及由下述通式(I)表示的基团中选出的至少一种有机基团。

[化学式1]