[发明专利]磁盘基板的制造方法无效
| 申请号： | 201280007030.4 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN103339673A | 公开（公告）日： | 2013-10-02 |
| 发明（设计）人： | 浜口刚吏 | 申请（专利权）人： | 花王株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;B24B37/10;C09K3/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁盘 制造 方法 | ||
1.一种磁盘基板的制造方法，其具有下述(1)～(4)的工序：
(1)将含有氧化铝粒子及水的研磨液组合物A供给到被研磨基板的研磨对象面，使研磨垫与所述研磨对象面接触，移动所述研磨垫和/或所述被研磨基板，对所述研磨对象面进行研磨的工序；
(2)将含有平均一次粒径(D50)为5～60nm、一次粒径的标准偏差不足40nm的二氧化硅粒子及水的研磨液组合物B供给到工序(1)中获得的基板的研磨对象面，使研磨垫与所述研磨对象面接触，移动所述研磨垫和/或所述被研磨基板，对所述研磨对象面进行研磨的工序；
(3)对工序(2)中获得的基板进行清洗的工序；
(4)将含有二氧化硅粒子及水的研磨液组合物C供给到工序(3)中获得的基板的研磨对象面，使研磨垫与所述研磨对象面接触，移动所述研磨垫和/或所述被研磨基板，对所述研磨对象面进行研磨的工序。
2.根据权利要求1所述的磁盘基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物A还含有二氧化硅粒子。
3.根据权利要求1或2所述的磁盘基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物A含有二烯丙基胺聚合物。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的磁盘基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物B含有具有阴离子性基的高分子。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的磁盘基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物B含有杂环芳香族化合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的磁盘基板的制造方法，其中，
所述研磨液组合物B含有多元胺化合物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的磁盘基板的制造方法，其中，
所述被研磨基板为镀敷有Ni-P的铝合金基板。
8.一种磁盘基板的研磨方法，其具有下述(1)～(4)的工序：
(1)将含有氧化铝粒子及水的研磨液组合物A供给到被研磨基板的研磨对象面，使研磨垫与所述研磨对象面接触，移动所述研磨垫和/或所述被研磨基板，对所述研磨对象面进行研磨的工序；
(2)将含有平均一次粒径(D50)为5～60nm、一次粒径的标准偏差不足40nm的二氧化硅粒子及水的研磨液组合物B供给到工序(1)中获得的基板的研磨对象面，使研磨垫与所述研磨对象面接触，移动所述研磨垫和/或所述被研磨基板，对所述研磨对象面进行研磨的工序；
(3)对工序(2)中获得的基板进行清洗的工序；
(4)将含有二氧化硅粒子及水的研磨液组合物C供给到工序(3)中获得的基板的研磨对象面，使研磨垫与所述研磨对象面接触，移动所述研磨垫和/或所述被研磨基板，对所述研磨对象面进行研磨的工序。
9.根据权利要求8所述的磁盘基板的研磨方法，其中，
所述被研磨基板为镀敷有Ni-P的铝合金基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于花王株式会社，未经花王株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201280007030.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
